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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115775788A(43)申请公布日2023.03.10(21)申请号202111042445.2(22)申请日2021.09.07(71)申请人长鑫存储技术有限公司地址230601安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号(72)发明人吴玉雷(74)专利代理机构北京律智知识产权代理有限公司11438专利代理师孙宝海袁礼君(51)Int.Cl.H01L23/532(2006.01)H01L21/768(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图8页(54)发明名称半导体结构及其制作方法(57)摘要本申请提出一种半导体结构及其制作方法,半导体结构包含第一导电层、第一阻挡层以及绝缘层;第一导电层包含至少两条走线,相邻两条走线之间形成有凹槽;第一阻挡层设置于凹槽的侧壁;绝缘层填充于凹槽,位于凹槽的绝缘层中形成有气隙。本申请通过在凹槽的侧壁设置第一阻挡层,能够有效隔绝外界水汽由绝缘层侵入第一导电层和其他结构,同时能够利用第一阻挡层有效防止第一导电层的相邻走线之间的电迁移现象。CN115775788ACN115775788A权利要求书1/2页1.一种半导体结构,其特征在于,包含:第一导电层,包含至少两条第一走线,相邻两条所述第一走线之间形成有凹槽;第一阻挡层,设置于所述凹槽的侧壁;以及绝缘层,填充所述凹槽,位于所述凹槽的所述绝缘层中形成有气隙。2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述第一阻挡层还设置于所述第一导电层的顶面和/或所述凹槽的底壁。3.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,沿所述第一导电层的顶面指向所述第一导电层的底面的方向,所述气隙的延伸长度小于所述第一导电层的厚度。4.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,还包含:第一介质层,设置于所述第一导电层的底面;其中,所述凹槽贯穿所述第一导电层。5.根据权利要求4所述的半导体结构,其特征在于,所述凹槽还贯穿所述第一介质层;其中,沿所述第一导电层的顶面指向所述第一导电层的底面的方向,所述气隙的延伸长度大于所述第一导电层的厚度,且小于所述第一导电层与所述第一介质层的厚度之和。6.根据权利要求4所述的半导体结构,其特征在于,还包含;第二介质层,位于所述第一介质层的下方;第二阻挡层,设置于所述第一介质层与所述第二介质层之间;以及第二导电层,包括多条第二走线,所述第二介质层设置于相邻两条第二走线之间,且所述第二走线通过贯穿所述第二阻挡层和所述第一介质层的第一互连结构连接于所述第一导电层。7.根据权利要求6所述的半导体结构,其特征在于,所述凹槽贯穿所述第一介质层,并延伸至所述第二阻挡层,暴露于所述凹槽的所述第二阻挡层的顶面定义所述凹槽的底壁。8.根据权利要求6所述的半导体结构,其特征在于,所述第一阻挡层与所述第二阻挡层的材质相同。9.根据权利要求6所述的半导体结构,其特征在于,所述凹槽在所述第一导电层的顶面的正投影,与所述互连结构在所述第一导电层的顶面的正投影交错布置。10.根据权利要求6所述的半导体结构,其特征在于,所述半导体结构还包含至少一层第三导电层和至少一层第三阻挡层,所述第三导电层包括多条第三走线和第三介质层,所述第三介质层导电层设置于相邻两条所述第三走线之间,且所述第三阻挡层和所述第三导电层依次层叠设置于所述第二介质层的远离所述第二导电层的一侧;其中距离所述第二介质层最近的所述第三导电层通过贯穿所述第二介质层和所述第三阻挡层的第二互连结构与所述第二导电层连接,相邻两层所述第三导电层之间通过贯穿所述第三阻挡层和所述第三介质层的第三互连结构连接。11.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述第一阻挡层的材质包含氮化硅。12.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述绝缘层包含:第一绝缘层,设置于所述第一导电层的顶面且填充所述凹槽,位于所述凹槽的所述第一绝缘层中形成有所述气隙;以及第二绝缘层,设置于所述第一绝缘层的顶面。2CN115775788A权利要求书2/2页13.根据权利要求12所述的半导体结构,其特征在于,所述第一绝缘层的材质包含氧化硅;和/或,所述第二绝缘层的材质包含氮化硅。14.根据权利要求1‑13任一项所述的半导体结构,其特征在于,所述第一导电层的材料包括铝。15.一种半导体器件,其特征在于,所述半导体器件包含权利要求1‑14中任一项所述的半导体结构。3CN115775788A说明书1/8页半导体结构及其制作方法技术领域[0001]本申请涉及半导体技术领域,尤其涉及一种半导体结构及其制作方法。背景技术[0002]半导体结构的顶层导电层的表面覆盖有绝缘层,绝缘层填充于顶层导电层的凹槽中并形成气隙。然而,现有半导体结构在绝缘层形成过程中或形成完成后容易出现缺陷,导