一种图案化材料及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115873189A(43)申请公布日2023.03.31(21)申请号202210434586.7(22)申请日2022.04.24(66)本国优先权数据202111155964.X2021.09.29CN(71)申请人华为技术有限公司地址518129广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼申请人复旦大学(72)发明人邓海杨振宇李雪苗周慧慧杨勍(51)Int.Cl.C08F293/00(2006.01)C08F8/44(2006.01)权利要求书5页说明书28页附图7页(54)发明名称一种图案化材料及其制备方法(57)摘要本申请涉及功能性高分子材料技术领域，提供了一种一种图案化材料及其制备方法。所述一种图案化材料包括A嵌段和B嵌段，A嵌段的结构如式1所示，B嵌段的聚合单体包括式2所示的第一单体，且部分或全部第一单体络合M，或B嵌段的结构如式3所示；R1为H或CH3；R2为碳原子数为1～18的含F基团；R3为H或CH3；R4为碳原子数为1～30、且含有配位原子的不饱和基团；R5为碳原子数为1～30的取代或未取代烃基、含酯基基团或含羰基基团；R6为碳原子数为1～30的不饱和基团；M为具有顺磁性的金属离子。本申请提供的一种图案化材料，在外加磁场作用下自组装形成的图案缺陷率低。CN115873189ACN115873189A权利要求书1/5页1.一种一种图案化材料，其特征在于，包括A嵌段和B嵌段，其中，所述A嵌段的结构如下式1所示；所述B嵌段的聚合单体包括下式2所示的第一单体，且部分或全部所述第一单体络合M，或所述B嵌段的结构如下式3所示；其中，R1为H或CH3；R2为碳原子数为1～18的含F基团，且所述含F基团为含F烷基、含F环烷基、含F烷氧基或含F环烷氧基；R3为H或CH3；R4为碳原子数为1～30、且含有配位原子的不饱和基团；R5为碳原子数为1～30的取代或未取代的烃基、含酯基基团或含羰基基团；R6为碳原子数为1～30的不饱和基团；n1、n2各自独立地选自1～100的整数，且n1、n2不同时为1；M为具有顺磁性的金属离子。2.如权利要求1所述的一种图案化材料，其特征在于，所述含F基团含有取代基或杂原子，其中，所述取代基选自卤素原子，所述杂原子选自N、O、S中的至少一种。3.如权利要求1所述的一种图案化材料，其特征在于，所述配位原子选自N、O、S中的至少一种。4.如权利要求3所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R4中含有‑NH2、‑N(H)‑、‑C(O)‑、‑C(O)O‑、‑C(O)NH‑、‑CN、‑OH、‑C(O)OH、‑NO2、‑C(O)NC(O)‑中的至少一种，以及至少一个不饱和五元环或不饱和六元环。5.如权利要求1所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R4选自如下基团中的一种：2CN115873189A权利要求书2/5页6.如权利要求1至5任一项所述的一种图案化材料，其特征在于，所述第一单体选自如下基团中的一种：7.如权利要求1至6任一项所述的一种图案化材料，其特征在于，所述B嵌段由第一单体聚合而成。3CN115873189A权利要求书3/5页8.如权利要求1至6任一项所述的一种图案化材料，其特征在于，所述B嵌段的聚合单体还包括苯乙烯，且所述B嵌段为所述第一单体和所述苯乙烯形成的无规共聚物。9.如权利要求8所述的一种图案化材料，其特征在于，所述B嵌段中，所述第一单体和所述苯乙烯的摩尔比为1:5～5:1。10.如权利要求1所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R5选自碳原子数为1～18，且含有N、O、S中的至少一种的不饱和基团。11.如权利要求10所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R5含有酯基、羰基或醚键。12.如权利要求1所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R6含有N、O、S中的至少一种。13.如权利要求12所述的一种图案化材料，其特征在于，所述R6含有至少一个不饱和五元环或不饱和六元环。14.如权利要求1至13任一项所述的一种图案化材料，其特征在于，所述M选自第四周期的Sc～Cu、第五周期的Y～Pd、镧系元素Hf～Pt、锕系元素中的一种或多种形成的金属离子。15.如权利要求14所述的一种图案化材料，其特征在于，所述M选自Fe3+、Co2+、Ni2+、Cr3+、Cu2+或V4+。16.如权利要求1至15任一项所述的一种图案化材料，其特征在于，所述嵌段共聚物为如下结构所述的共聚物：4CN115873189A权利要求书4/5页P1中，至少部分下列单体结合所述M：17.一种一种图案化材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：合成A嵌段，所述A嵌段的结构如下式1所示，其中，R1为H或CH3；R2为碳原子数为1～18的含F基团，且所述含F基团为含F烷基、含F环烷基