一种电子器件、封装结构及其制备方法.pdf
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一种电子器件、封装结构及其制备方法.pdf
本发明涉及一种电子器件、封装结构及其制备方法,属于半导体技术领域,用于解决现有封装工艺中的封装厚、封装效率不高的问题。所述方法包括:在基材的第一表面提供第一金属块,其中,所述基材的第一表面包括第一互联区域和第二互联区域;在第二互联区域表面提供第一芯片,所述第一芯片与所述第二互联区域电连接;提供框架,其中,所述框架包括边框和多个从所述边框向内延伸的连接部,所述第一芯片通过一个或多个所述连接部与所述第一金属块电连接;提供封装材料得到封装体;以及去除所述框架的所述边框。本发明封装效率高,提供的封装结构薄,电阻小
一种TSV封装结构的制备方法及其所制备的TSV封装结构.pdf
本发明提供了一种TSV封装结构的制备方法及其所制备的TSV封装结构,其中所述方法包括:在衬底的第一表面形成盲孔;衬底包括相对设置的第一表面和第二表面;在盲孔内填充导电金属;对衬底的第二表面进行减薄至露出盲孔内的导电金属;在板体的第二表面制作第一布线层,第一布线层的至少一条导线与盲孔内的导电金属连接;在盲孔内填充导电金属的步骤之后,还包括:在板体的第一表面制作第二布线层,第二布线层的至少一条导线与盲孔内的导电金属连接。由于盲孔的底部朝向衬底的第二表面突出,则在TSV封装结构深宽比较大、盲孔较深时,采用传统方
一种封装结构及其制备方法.pdf
本发明涉及芯片封装技术领域,尤其涉及一种封装结构及其制备方法,该封装结构包括:基板、阻焊层、覆盖基板,该阻焊层具有将基板裸露的至少两个开窗区域,至少两个开窗区域之间不连通;凸点焊盘,设置于基板上,且位于开窗区域内,进而使得开窗区域减小,阻焊层面积增大,增大了阻焊层与填充胶的接触面积,而阻焊层与填充胶之间的热膨胀系数相较于铜与填充胶之间的热膨胀系数有所改善,进而有效避免了基板与填充胶之间的分层现象。
一种封装结构及其制备方法.pdf
本发明提供了一种封装结构及其制备方法。本发明的封装结构包括预封装层和主封装层,所述预封装层包括层叠设置的有机物层、金属氧化物层和金属层;所述主封装层包括frit封装层和盖板层。本发明具有如下技术效果:1)本发明提供的预封装层可以吸收并隔绝OLED器件在主封装前可能接触的空气和水汽;主封装层可隔绝内部器件在封装后可能接触的空气和水汽,达到了器件防水氧侵蚀的作用,从而大幅度延长了OLED器件的使用寿命;2)预封装采用的是蒸镀工艺,和前工序匹配度非常高,工艺较为简单,可实施性好;3)预封装层水氧含量可以控制在1
一种封装面板、器件封装结构及其制备方法.pdf
本发明提供了一种封装面板、器件封装结构及其制备方法。本发明提供的封装面板包括贴合基板和通过构图工艺在贴合基板上形成的隔垫物,其中贴合基板上预留有封框胶封装位置。使用该封装面板封装器件时,由于隔垫物支撑在贴合基板和器件基板之间,因此封装面板易于从器件基板上分离,同时封装面板对器件基板以及形成在器件基板上的元器件的损伤较小或没有损伤,有效保护了器件基板以及器件基板上元器件的性能。