一种功率半导体器件串联均压结构及功率半导体器件.pdf
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一种功率半导体器件串联均压结构及功率半导体器件.pdf
本发明提供的功率半导体器件串联均压结构及功率半导体器件,多级串联功率芯片结构的第一端固定至所述第一极性金属板的第一侧面上;所述多级串联均压回路结构的第一端固定至所述第一极性金属板的第一侧面上;所述多级串联功率芯片结构的第二端与所述多级串联均压回路结构的第二端固定连接。本发明通过在器件内部完成器件的串联,并集成均压回路,提高了模块的功率密度和集成度,并提升了可靠性。
功率半导体器件的终端结构及功率半导体器件.pdf
本发明提供了一种功率半导体器件的终端结构及功率半导体器件。该功率半导体器件的终端结构包括位于功率半导体器件主体半导体区中的沟道环,所述沟道环的材料为相对介电常数为1~15之间的本征多晶材料。本发明的功率半导体器件的终端结构中沟道环采用相对介电常数在15以内的本征多晶材料,使通过该沟道环区域内的电场线接近水平、并且在该区域内无极值点,可以很好地降低载流子的滞留量,从而提高击穿电压。
功率半导体器件封装结构和功率半导体器件模块.pdf
本发明提供一种功率半导体器件封装结构和功率半导体器件模块,功率半导体器件封装结构包括:下导电散热板,所述下导电散热板的一侧的部分表面具有沉槽;功率芯片,位于所述沉槽中,所述功率芯片与所述下导电散热板电连接。所述功率半导体器件封装结构的散热效果好、功率密度大且寄生电感低。
功率半导体器件的加工方法及功率半导体器件.pdf
本申请涉及微电子技术领域,具体而言,涉及一种功率半导体器件的加工方法及功率半导体器件。功率半导体器件的加工方法包括以下步骤:在元胞区上刻蚀形成沟槽,在器件表面形成多晶硅层,多晶硅填满所述沟槽并在器件表面形成一定厚度;对元胞区部分的多晶硅层进行刻蚀,形成器件的栅极结构,对终端区部分的多晶硅层进行刻蚀形成器件的场板;其中,通过各向同性刻蚀方法刻蚀终端区部分的多晶硅层,所形成的场板的刻蚀剖面的侧壁与器件表面呈倾斜设置。通过变更刻蚀方法,采用各向同性的刻蚀方法将多晶硅层的边缘角度由直角刻蚀成斜角,ILD在垫积的时
一种半导体功率器件的边缘终端和半导体功率器件.pdf
本实用新型公开了一种半导体功率器件的边缘终端和半导体功率器件,该边缘终端包括:N个浮空场限环,浮空场限环环绕半导体功率器件的主结区,其中第1个至第n个浮空场限环的结深与主结区的结深相同,第n+i个浮空场限环的结深大于第n个浮空场限环的结深,且从第n+1个浮空场限环开始,浮空场限环的结深逐渐增大,N、n、i为正整数,且2≤n<n+i≤N。本实用新型半导体功率器件的边缘终端,通过优化浮空场限环的结深和掺杂分布,浮空场限环的曲率半径增大,提升了终端区的电场分布均匀性和面积,进而提升了终端效率和阻断电压。