一种电子轰击离子源载气离子移除装置.pdf
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一种电子轰击离子源载气离子移除装置.pdf
本发明公开了一种电子轰击离子源载气离子移除装置,依次包括电子轰击离子源、离子聚焦透镜、射频四极杆、飞行时间分析器和检测器,所述射频四极杆设置在离子聚焦透镜与飞行时间分析器之间,射频四极杆沿杆长度的放置方向与载气离子的传输方向相同,四支杆都连接有射频电路,并在任意的其中一对相对杆上耦合有一定频率的正弦波,所述射频四极杆将电子轰击离子源产生的样品离子传输进入飞行时间分析器中,并利用一定频率的正弦波使特定的载气离子发生共振而不稳定被移除。所述装置在离子传输过程中将载气离子移除,减轻了对检测目标离子的影响,减少了
用于双聚焦磁质谱仪的电子轰击离子源的设计与研究.docx
用于双聚焦磁质谱仪的电子轰击离子源的设计与研究双聚焦磁质谱仪是一种用于物质分析的仪器,在分析物质成分和结构方面具有重要的应用价值。其中,电子轰击离子源是双聚焦磁质谱仪中的一个重要组成部分,它能够将样品中的原子、分子转化为带电的离子,并将其引导到下一个微观区域进行进一步分析。因此,本文将从电子轰击离子源的设计与研究方面进行探讨,以期为双聚焦磁质谱仪的研究和应用提供一定的参考价值。一、电子轰击离子源的原理电子轰击离子源的原理是利用高能电子轰击样品中的原子和分子,将其转化为带电的离子。在电子轰击离子源中,样品通
一种离子源维护装置及离子源维护方法.pdf
本发明涉及离子束溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种离子源维护装置及离子源维护方法,通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置,在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护,避免了真空腔体的污染;并且由于离子源外侧加装了隔离保护套,使得射频离子源不会干扰腔体内带电粒子的正常运动,在进行镀膜工艺时离子源可在真空腔体内部进行移动,可调节靶源距离,改变束斑大小和束流空间分布,进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。
离子源装置.pdf
本申请涉及一种离子源装置,包括:一霍尔离子源以及至少两个中空阴极;各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处;各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子,且在其中任何一个中空阴极失效时,切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案,实现了中空阴极的备份功能,避免了在镀膜使用过程中,当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况,从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化,实现离子源长时间不间断工作。避免中和器失效导致产品报废的情况。
一种等离子密度可调的离子源装置.pdf
本发明公开了一种等离子密度可调的离子源装置,包括从内至外依次同轴设置的放电腔、螺旋线圈和离子源腔;放电腔的外壁面上设置有金属箔,金属箔能够屏蔽放电腔的内边缘磁场强度,中和趋肤效应所造成的等离子体密度偏高,使得放电腔内等离子体密度分布均匀。金属箔的宽度W取值范围为1~20mm,金属箔的厚度T取值范围为0.1mm~t,其中,t为趋肤深度;根据放电腔中的边缘等离子体密度和中心区域等离子体密度的差异性,选择金属箔的厚度T和表面积。本发明通过在放电腔外增加法拉第结构,并对法拉第结构进行功率分配,针对不同工况进行等离