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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103065846A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103065846103065846A(43)申请公布日2013.04.24(21)申请号201310002391.6(22)申请日2013.01.05(71)申请人苏州达方电子有限公司地址215011江苏省苏州市高新区竹园路99号申请人达方电子股份有限公司(72)发明人赵令溪颜志仲(51)Int.Cl.H01H13/20(2006.01)H01H13/70(2006.01)权权利要求书3页利要求书3页说明书4页说明书4页附图6页附图6页(54)发明名称磁吸式按键及其键盘(57)摘要本发明关于一种磁吸式按键及键盘,磁吸式按键包含底板、支撑架、第一磁吸单元、键帽以及第二磁吸单元。该支撑架设置于该底板上,且该支撑架具有开孔。该第一磁吸单元设置于该支撑架。该键帽以可活动方式设置于该支撑架与该底板的间,该键帽沿着预设方向相对该底板移动。该第二磁吸单元设置于该键帽的底部。该第二磁吸单元与该第一磁吸单元产生平行于该预设方向的磁性吸附力,用以驱动该第二磁吸单元抵靠于该开孔的周缘,且驱动该键帽穿出该开孔。本发明具有结构简单、操作容易的优点,并可大幅缩减所占的空间,有利于应用在薄型键盘。CN103065846ACN1036584ACN103065846A权利要求书1/3页1.一种磁吸式按键,其特征在于包含:底板;支撑架,设置于该底板上,该支撑架具有开孔;第一磁吸单元,设置于该支撑架上;键帽,以可活动方式设置于该支撑架与该底板之间,该键帽沿着预设方向相对该底板移动;以及第二磁吸单元,设置于该键帽的底部,该第二磁吸单元与该第一磁吸单元产生平行于该预设方向的磁性吸附力,用以驱动该第二磁吸单元抵靠于该开孔的周缘,且驱动该键帽穿出该开孔。2.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该支撑架包含限位部,该限位部与该底板之间形成容置空间,且该限位部用来限制该键帽脱离该容置空间。3.根据权利要求2所述的磁吸式按键,其特征在于:该第一磁吸单元设置于该限位部的下表面,该第一磁吸单元的下端与该第二磁吸单元的上端作用,以产生该磁性吸附力。4.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该第一磁吸单元与该第二磁吸单元分别为磁性材料及导磁性材料。5.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该第二磁吸单元包含复数个区段,各区段环绕地设置在该键帽的该底部。6.一种键盘,其特征在于包含:复数个如权利要求1至5中任意一项权利要求所述的磁吸式按键。7.一种磁吸式按键,其特征在于包含:底板;支撑架,设置于该底板上,该支撑架具有开孔,该支撑架具有第一轮廓的内侧壁,该内侧壁沿着预设方向线性延伸,该内侧壁具有第一侧壁和第二侧壁,该第一侧壁和该第二侧壁为不相邻的相对两侧;第一磁吸元件,设置于邻近该第一侧壁上端处;第二磁吸元件,设置于邻近该第二侧壁上端处;键帽,该键帽具有键帽上部和键帽底部,该键帽底部大于该键帽上部,该键帽底部具有第二轮廓的外侧壁,该外侧壁具有第三侧壁和第四侧壁,该第三侧壁和该第四侧壁分别对应于该第一侧壁和该第二侧壁;第三磁吸元件,设置于邻近该第三侧壁处,该第一磁吸元件与该第三磁吸元件产生第一磁性吸附力;以及第四磁吸元件,设置于邻近该第四侧壁处,该第二磁吸元件与该第四磁吸元件产生第二磁性吸附力,其中该第二轮廓吻合该第一轮廓,且该第二轮廓略小于该第一轮廓,使得该键帽沿着该预设方向相对于该底板运动时,该键帽底部和该支撑架间不会发生干涉;其中该第一磁性吸附力和该第二磁性吸附力从不相邻两侧吸引该键帽,用以驱动该键帽上升,进而使该键帽上部穿出该开孔。8.根据权利要求7所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键另包含开关,设置于该底板上且位于该键帽下方,当使用者施力克服该第一磁性吸附力和该第二磁性吸附力,2CN103065846A权利要求书2/3页使该键帽向下移动接触该开关时,该开关被该键帽接触而启动。9.根据权利要求7所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键另包含第五磁吸元件,该第三磁吸元件、该第四磁吸元件与该第五磁吸元件呈三角形分布而围绕该键帽上部;或者磁吸式按键另包含第五磁吸元件以及第六磁吸元件,该第三磁吸元件、该第四磁吸元件、该第五磁吸元件与该第六磁吸元件呈四边形分布而围绕该键帽上部。10.根据权利要求7所述的磁吸式按键,其特征在于:该支撑架还具有限位部,该限位部与该底板之间形成容置空间,该限位部用来限制该键帽底部脱离该容置空间。11.根据权利要求10所述的磁吸式按键,其特征在于:该键帽上部和该限位部间具有预留间隙,使得该键帽沿着该预设方向相对于该底板运动时,该键帽上部和该限位部间不会发生干涉。12.根据权利要求7所述的磁吸式按键,其特征在于:该