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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103681065103681065A(43)申请公布日2014.03.26(21)申请号201310505321.2(22)申请日2013.10.24(71)申请人苏州达方电子有限公司地址215011江苏省苏州市高新区竹园路99号申请人达方电子股份有限公司(72)发明人颜志仲(51)Int.Cl.H01H13/7065(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书4页说明书4页附图5页附图5页(54)发明名称磁吸式按键及其键盘(57)摘要本发明揭露一种磁吸式按键及其键盘,磁吸式按键包含有底板、键帽、曲型支撑件、托板以及吸附元件;该键帽活动地设置在该底板上;该曲型支撑件具有第一端与第二端,并设置在该键帽与该底板之间;该托板以可相对滑动方式设置在该底板下方;该吸附元件设置在该托板;该吸附元件于该托板位于第一位置时相对该第一端产生吸附力,以使该第二端施加向上支撑力予该键帽;该吸附元件另于该托板位于第二位置时移除对该第一端的该吸附力,使该键帽下落并同时接触该第一端与该第二端。本发明的按键可通过吸附力改变按键的高度。CN103681065ACN103685ACN103681065A权利要求书1/1页1.一种磁吸式按键,其特征在于包含有:底板;键帽,活动地设置在该底板上;曲型支撑件,具有第一端与第二端,该曲型支撑件设置在该键帽与该底板之间;托板,以可相对滑动方式设置在该底板下方;以及吸附元件,设置在该托板上,该吸附元件于该托板位于第一位置时相对该第一端产生吸附力,以使该第二端给该键帽施加向上支撑力,该吸附元件另于该托板位于第二位置时移除对该第一端的该吸附力。2.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键还包含有薄膜电路板,该薄膜电路板具有开关,该曲型支撑件另可具有突出部,该突出部设置在该第二端,该突出部用来致动该薄膜电路板的该开关。3.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该曲型支撑件另具有转折端,该转折端位于该第一端和该第二端之间,该托板另具有支撑部,该支撑部在该托板位于该第一位置时支撑该转折端,且该支撑部在该托板位于该第二位置时与该转折端分离。4.如权利要求3所述的磁吸式按键,其特征在于:该底板具有导引槽,该转折端滑动地设置在该导引槽中,该转折端与该支撑部分离后沿着该导引槽向下移动。5.如权利要求4所述的磁吸式按键,其特征在于:该托板另具有斜导部,该斜导部设置在该支撑部上,该斜导部用来推动该曲型支撑件,使该转折端沿着该导引槽向上移动。6.如权利要求4所述的磁吸式按键,其特征在于:该导引槽为竖直型长槽。7.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键另包含有:至少一升降支撑机构,该升降支撑机构的两端分别连接该底板与该键帽。8.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该曲型支撑件由导磁性材质组成,该吸附元件为永久磁铁或电磁铁。9.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键还包含有第二吸附元件,该第二吸附元件设置于该托板上,于该托板位于该第二位置时,该第二吸附元件接近该第二端,该第二吸附元件用于加快该曲型支撑件的翻转。10.一种键盘,其特征在于包含有复数个磁吸式按键,该复数个按键设置在该底板上,且该复数个磁吸式按键的至少其中之一为如权利要求1-9中任意一项所述的磁吸式按键。2CN103681065A说明书1/4页磁吸式按键及其键盘技术领域[0001]本发明提供一种可改变高度的按键,尤指一种以磁吸力改变高度的磁吸式按键及其键盘。背景技术[0002]随着科技的进步,可携式电子装置逐渐趋向超薄型的外观设计。薄型电子装置的结构空间有限,故其输入介面(例如键盘)也须有相应的薄型设计。然而薄型键盘的操作行程较短,使用薄型键盘时难以感受到足够产生操作手感的力回馈,故一种可改变整体结构高度的键盘便应运而生,各按键的纵向高度随着键盘在使用模式或收纳模式而切换改变。传统的可改变高度键盘是利用重力驱动各按键的键帽在收纳模式下降到最低位置,但以重力带动键帽下沉的稳定性不佳,长时间多次使用的键帽无法正确下沉到预设最低位置。因此,如何设计出一种可改变结构高度,并具有较佳操作可靠度的下沉式按键及其键盘,便为相关电脑产业的发展目标之一。发明内容[0003]为解决上述问题,本发明提供一种以磁吸力改变高度的磁吸式按键及其键盘,以达到使该按键及其键盘稳定地上下移动的目的。[0004]为达到上述目的,本发明提出一种磁吸式按键,包含有底板、键帽、曲型支撑件、托板以及吸附元件;键帽活动地设置在该底板上;曲型支撑件具有第一端与第二端,该曲型支撑件设置在该键帽与该底板之间;托板以可相对滑动方式设置在该底板下方;吸附元件设置在该托板上,该吸附元