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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103065843A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103065843103065843A(43)申请公布日2013.04.24(21)申请号201310002785.1(22)申请日2013.01.05(71)申请人苏州达方电子有限公司地址215011江苏省苏州市高新区竹园路99号申请人达方电子股份有限公司(72)发明人赵令溪颜志仲(51)Int.Cl.H01H13/14(2006.01)H01H13/22(2006.01)H01H5/02(2006.01)H01H13/705(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书4页说明书4页附图8页附图8页(54)发明名称磁吸式按键及其键盘(57)摘要本发明关于一种磁吸式按键及键盘,该磁吸式按键包含底板、支撑架、第一磁吸元件、键帽以及第二磁吸元件。该支撑架设置于该底板上。该第一磁吸元件设置于该支撑架。该键帽以可活动方式设置于该支撑架与该底板之间。该第二磁吸元件设置于该键帽。该第一磁吸元件与该第二磁吸元件产生磁力,用以驱动该键帽分离该底板且贴附在该支撑架上。本发明的磁吸式按键及其键盘利用磁吸元件作为键帽与支撑架之间的驱动机构具有更佳的按压手感。CN103065843ACN1036584ACN103065843A权利要求书1/1页1.一种磁吸式按键,其特征在于包含:底板;支撑架,设置于该底板上;第一磁吸元件,设置于该支撑架;键帽,以可活动方式设置于该支撑架与该底板之间;以及第二磁吸元件,设置于该键帽,该第一磁吸元件与该第二磁吸元件产生磁力,用以驱动该键帽与该底板分离且贴附在该支撑架上。2.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁力为平行于该键帽相对该底板的移动方向的磁性吸附力。3.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该支撑架包含第一区块以及第二区块,该第一区块具有限位柱,该第二区块具有穿孔,该限位柱穿设该第一磁吸元件以插入该穿孔,且该限位柱的一端以热熔或粘贴方式连接于该底板。4.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该支撑架的上端与下端分别以热熔、粘贴或模内射出方式连接于该第一磁吸元件及该底板。5.根据权利要求4所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键另包含:保护件,该保护件覆盖于该第一磁吸元件上。6.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该支撑架以一体成型技术形成于该底板或该第一磁吸元件。7.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该第一磁吸元件与该第二磁吸元件分别为磁性材料及导磁性材料,或皆为磁性涂料。8.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该键帽具有凹陷结构,该磁吸式按键另包含导磁性元件,其部分设置于该凹陷结构内且部分突出该键帽,该第二磁吸元件为磁性元件,其设置在该凹陷结构内。9.根据权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于:该磁吸式按键另包含薄膜电路板,该薄膜电路板设置于该底板上。10.根据权利要求9所述的磁吸式按键,其特征在于:该薄膜电路板包含上盖以及复数个接点,该复数个接点分别设置于该上盖与该底板。11.一种键盘,其特征在于包含复数个如权利要求1至10中任意一项所述的磁吸式按键。12.根据权利要求11所述的键盘,其特征在于:该复数个磁吸式按键的该复数个键帽以一体成型方式相互连接。2CN103065843A说明书1/4页磁吸式按键及其键盘技术领域[0001]本发明关于一种按键及其键盘,尤指一种磁吸式按键及其键盘。背景技术[0002]就目前个人电脑的使用习惯而言,键盘为不可或缺的输入设备之一,用以输入文字、符号或数字。不仅如此,举凡日常生活所接触的消费性电子产品或是工业界使用的大型加工设备,皆需设有按键机构作为输入装置,以操作上述的电子产品与加工设备。随着科技的进步,消费性电子产品逐渐迈向轻薄化的设计趋势,因此按键机构也相应地设计出更轻更薄的结构,以适于应用在薄型电子产品。传统的按键大都以剪刀脚结构配合弹性体来执行键帽复位的功能,但其结构体积较为庞大,难以应用在超薄型电子产品中。因此,如何设计出一种可兼具高结构强度及轻薄造型的按键及其相关键盘,即为现今机构产业亟需努力的发展目标。发明内容[0003]本发明提供一种磁吸式按键及其键盘,以解决上述的问题。[0004]本发明揭露一种磁吸式按键,其包含:底板、支撑架、第一磁吸元件、键帽以及第二磁吸元件。该支撑架设置于该底板上;该第一磁吸元件设置于该支撑架;该键帽以可活动方式设置于该支撑架与该底板之间;该第二磁吸元件,设置于该键帽,该第一磁吸元件与该第二磁吸元件产生磁力,用以驱动该键帽分离该底板且贴附在该支撑架上。[0005]作为可选的技术方案,该磁力为平行于该键帽相对该底板的移动方向的磁性吸附力。[0006]作为可