一种可拉伸半导体薄膜的通用制备方法.pdf
猫巷****雪凝
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一种可拉伸半导体薄膜的通用制备方法.pdf
本发明公开了一种可拉伸半导体薄膜的通用制备方法,具体包括如下步骤:将改性聚合物溶于N,N‑二甲基甲酰胺中,将基材浸泡在其中,浸泡30s后,以0.5cm/s的提拉速度取出基材,将在温度为130℃的条件下,烘干成膜,再从基材上剥离,制得可拉伸半导体薄膜,该改性聚合物为长链螺旋状结构,且分子侧链含有大量长链烷基,能够降低分子间的作用力,使得制备出的半导体薄膜具有很好的拉伸效果,同时该改性聚合物为P‑型半导体,使得该薄膜能够满足半导体技术要求。
取向且可拉伸的有机半导体薄膜的制备方法.pdf
本发明公开了一种取向且可拉伸的有机半导体薄膜的制备方法。该制备方法包括以下步骤:(1)将基材浸入聚噻吩浓度为1~15mg/mL的聚噻吩溶液中,保留5~30s,然后以0.1~0.9cm/s的提拉速率将基材取出,干燥后,在基材表面形成取向聚噻吩膜;其中,所述聚噻吩溶液包括聚噻吩、三氯苯和溶剂;(2)将道康宁的sylgard184A溶液与sylgard184B溶液的混合物施于所述取向聚噻吩膜上,固化后得到复合膜;(3)将复合膜从基材上剥离,得到取向且可拉伸的有机半导体薄膜。本发明可以避免有机半导体薄膜因拉伸而导
一种半导体薄膜的制备方法.pdf
本发明公开了一种半导体薄膜的制备方法,包括以下步骤:S101.提供基底;S102.在基底上形成薄膜;S103.在薄膜上通过涂胶、曝光和显影光刻自定义图形:光刻胶形成掩蔽层,在没有光刻胶的薄膜部分形成腐蚀窗口;S104.真空条件下,对腐蚀窗口内的薄膜进行湿法腐蚀;S105.去除显影后剩余的光刻胶。本发明有效解决了腐蚀过程中气泡残留的问题,保证了腐蚀的均匀性,提高了产品的整体良品率。
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一种硒半导体薄膜的制备方法.pdf
一种硒半导体薄膜的制备方法,首先清洗纯玻璃基片或ITO基片;其次将称量好的硒粉体的和基片放置在石英管的相应位置;然后对腔体抽真空,在较低温度下(接近室温)以一定升温速率给气氛炉升温,到达一定温度后,保温几分钟,保温结束立刻打开气氛炉上盖,使腔体快速降温冷却至室温后,将基片取出,完成薄膜沉积得到硒半导体薄膜,再将沉积得到的薄膜在空气气氛中一定温度下退火一定时间。本发明的优点是:(1)操作简单,重复性高,薄膜制备过程用时少、效率高,对实验设备及环境要求较低;(2)制备的硒半导体薄膜形貌规则、薄厚均匀。