一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110527966A(43)申请公布日2019.12.03(21)申请号201910839103.X(22)申请日2019.09.05(71)申请人西安交通大学地址710049陕西省西安市咸宁西路28号(72)发明人朱晓东庞杰李玉楼宋忠孝李雁淮孙军(74)专利代理机构西安通大专利代理有限责任公司61200代理人陈翠兰(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/50(2006.01)C23C14/56(2006.01)C23C14/14(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备(57)摘要本发明公开了一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，包括壳体，该壳体具有一端开口的腔体，且腔体的长度为4.8～5.5m；其中，腔体内的底部在水平方向设置有长管支撑架，该长管支撑架的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接；腔体的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘，每个靶座底盘上均分布有多个靶座，每个靶座上均用于安装靶材，每个靶座底盘旁边均设置有用于更换靶材的腔门，靶座上设置有遮挡板，以遮挡靶材。所述磁控溅射设备在放入工件后，进行抽真空，启动电机并调节转速至指定值，进行镀膜。与传统镀膜设备相比，本发明所提供的磁控溅射设备能均匀镀覆长管类工件的所有表面，操作便捷，解决了现有磁控镀膜设备不适配于长管工件镀膜的问题。CN110527966ACN110527966A权利要求书1/1页1.一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，包括壳体，该壳体具有一端开口的腔体(10)，且腔体(10)的长度为4.8～5.5m；其中，腔体(10)内的底部在水平方向设置有长管支撑架(30)，该长管支撑架(30)的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接；腔体(10)的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘(20)，每个靶座底盘(20)上均分布有多个靶座(210)，每个靶座(210)上均用于安装靶材，每个靶座底盘(20)旁边均设置有用于更换靶材的腔门(110)，靶座(210)上设置有遮挡板(220)，以遮挡靶材。2.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，靶座底盘(20)的数量为2～5个，每个靶座底盘(20)含有1～6个靶座(210)，用以镀覆合金及多层薄膜；靶座底盘(20)连接外部电源，以调整镀膜电流。3.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，长管支撑架(30)包括平行设置的两个长轴(320)以及分别套装在两个长轴(320)的若干滚轮(310)。4.根据权利要求3所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，每个长轴(320)上含2～6个滚轮(310)，且每个长轴(320)含3～7个阶梯，分别用于对滚轮(310)一侧定位，滚轮(310)另一侧用弹性挡圈。5.根据权利要求3所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，工作时，长管工件放置在两个长轴(320)之间，一个长轴(320)与传动装置连接，与该长轴(320)相连的滚轮(310)作为主动轮向长管工件施力，使得长管工件发生自转，另一个长轴(320)作为从动轮对长管工件提供支撑作用。6.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，传动装置包括自转电机和联轴器，自转电机的输出端通过联轴器与长管支撑架(30)连接。7.根据权利要求6所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，自转电机能够调节转速以适应不同薄膜的镀覆要求。8.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，壳体的腔室(10)设置有通气口，用于与分子泵相连接，以抽真空。9.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，靶材为纯金属靶、合金靶或陶瓷靶。10.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，腔体(10)为圆筒状结构。2CN110527966A说明书1/3页一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备技术领域[0001]本发明属于磁控溅射镀膜领域，尤其涉及一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备。背景技术[0002]磁控溅射作为一种重要的镀膜方法被广泛应用于材料表面强化、集成电路制造、光电行业等。由磁控溅射方法所制备出的薄膜具有膜层致密、均匀性好、膜基结合力高、沉积速率快等优点。磁控溅射技术是利用工作气体离子在电场的加速下，以高速轰击阴极靶材，从而使靶材表面原子或分子脱离靶材，沉积在工件表面形成薄膜。[0003]传统磁控溅射设备是利用夹具将工件放置在样品盘中，当工件两面均需要镀覆时则需要镀覆完一面后取出重新装夹，再次进行镀覆另一面，这一过程极大地增加了工作周期。