处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115985804A(43)申请公布日2023.04.18(21)申请号202211022627.8(22)申请日2022.08.24(30)优先权数据10-2021-01365982021.10.14KR(71)申请人显示器生产服务株式会社地址韩国京畿道(72)发明人朴庸硕朴镐胤姜辰求(74)专利代理机构北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)11400专利代理师江亚男方挺(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置(57)摘要本发明提供一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，该处理液罐具有过滤器部，简化供给配管的结构并使供给配管和配管连接部最小化，可以提高设备的可靠性和容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。为此，本发明公开的处理液罐储存用于处理衬底的处理液，包括：罐主体，隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；过滤器部，设置在罐主体的内部，过滤处理液中包含的异物，过滤器部包括：过滤器主体，设置在第一分离带，其上侧流入部配置在上侧储存部供处理液流入，其下侧排出部配置在下侧储存部供过滤后的处理液排出；过滤器壳体，设置在上侧储存部，覆盖上侧流入部的上部，上侧储存部的处理液流入内部，使上侧流入部浸没在处理液中。CN115985804ACN115985804A权利要求书1/1页1.一种处理液罐，储存用于处理衬底的处理液，其特征在于，包括：罐主体，其内部空间隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；以及过滤器部，设置在所述罐主体的内部空间中，过滤利用从外部供给的输送压力从所述上侧储存部输送到所述下侧储存部的处理液中包含的异物，所述过滤器部包括：过滤器主体，设置在所述第一分离带处，其上侧流入部配置在所述上侧储存部处供处理液流入，其下侧排出部配置在所述下侧储存部处供过滤后的处理液排出；以及过滤器壳体，设置在所述上侧储存部处，设置成覆盖所述上侧流入部的上部，所述上侧储存部的处理液流入其内部而使所述上侧流入部浸没在处理液中。2.根据权利要求1所述的处理液罐，其特征在于，所述过滤器壳体包括空气排放部，所述空气排气部构造成随着所述上侧储存部的处理液流入内部而使填充在内部的空气排放到外部。3.根据权利要求1所述的处理液罐，其特征在于，所述下侧储存部包括从连接到所述处理液供给部的一侧面朝向另一侧面向上部方向倾斜的底面。4.根据权利要求3所述的处理液罐，其特征在于，设置有多个所述过滤器部，并且所述过滤器部从所述下侧储存部的一侧面朝向另一侧面以所设定的间隔分离配置。5.根据权利要求1所述的处理液罐，其特征在于，所述上侧储存部在上部包括用于维护所述过滤器部的可开闭的窗。6.一种衬底处理装置，其特征在于，包括：处理衬底的腔室；根据权利要求1至5中任一项所述的处理液罐，储存用于在所述腔室中处理衬底的处理液；以及处理液供给部，将储存在所述处理液罐内的处理液进行加压并提供给所述腔室。7.根据权利要求6所述的衬底处理装置，其特征在于，所述腔室的内部空间隔着第二分离带划分为衬底处理部和配管设置部。8.根据权利要求7所述的衬底处理装置，其特征在于，所述处理液供给部包括：供给配管，将所述处理液罐和所述腔室连接；泵，设置在所述供给配管处，对储存在所述处理液罐中的处理液进行加压并输送到所述腔室；喷射模块，在连接到所述供给配管的状态下配置在所述衬底处理部处，向所述衬底处理部的衬底喷射处理液；以及流量调节部，设置在所述供给配管处，用于调节流向所述喷射模块的处理液的流量，包括所述流量调节部的所述供给配管的至少一部分配置在所述配管设置部处。2CN115985804A说明书1/6页处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置技术领域[0001]本发明涉及一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，具体涉及这样一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，该处理液罐在内部具有过滤器，简化连接处理液罐和腔室的供给配管的结构并且使露出到外部的供给配管和配管连接部最小化，从而通过确保优异的气密性来提高设备的可靠性，可以容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。背景技术[0002]在半导体或显示器制造工序等精密制造领域中，使用纯水(Deionizedwater:DI，去离子水)、超纯水(Ultrapurewater:UPW)或各种化工药品等处理液。[0003]图1是用于说明常规的衬底处理装置的主视示意图，图2是用于说明常规的衬底处理装置的侧视示意图。[0004]参照图1和图2，通常，衬底处理装置构成为包括：处理衬底1的腔室10；处理液罐20，连接到腔室10和回收配管30，回收并储存在腔室10中使用的处理液；以及处理液供给部40，用于对