显示面板制造方法及显示面板.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115985763A(43)申请公布日2023.04.18(21)申请号202211679136.0(22)申请日2022.12.26(71)申请人TCL华星光电技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号(72)发明人李林霜朱钦富段淼陈黎暄(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司44570专利代理师孟霞(51)Int.Cl.H01L21/027(2006.01)G03F7/004(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称显示面板制造方法及显示面板(57)摘要本申请公开了一种显示面板制造方法及显示面板，包括如下步骤：提供一基底，在基底上形成待刻蚀层；在待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层，其中抗蚀刻层为互穿交联网状结构，刻蚀待刻蚀层。本申请，通过在待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层，其中抗蚀刻层为互穿交联网状结构，当抗蚀刻层厚度很薄时，也具有极大的抗刻蚀能力，可以用于更加精密的显示面板的制造当中。CN115985763ACN115985763A权利要求书1/1页1.一种显示面板制造方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一基底，在所述基底上形成待刻蚀层；在所述待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层，其中所述抗蚀刻层为互穿交联网状结构；刻蚀所述待刻蚀层。2.如权利要求1所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述步骤“在所述待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层”包括：在所述待刻蚀层上形成图案化的光刻胶层；在图案化的所述光刻胶层上形成前驱体层；以及固化所述前驱体层，其中在固化过程中，所述光刻胶层的材料和所述前驱体层的材料反应形成所述互穿交联网状结构。3.如权利要求2所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层的材料包括i紫外光刻胶、深紫外光刻胶或极紫外光刻胶；所述前驱体层的材料包括环状结构的基团。4.如权利要求3所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层的材料包括酚醛树脂；所述前驱体层的材料包括环氧树脂，聚氨酯或环氧改性的丙烯酸酯。5.如权利要求4所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层的材料中的酚醛树脂与环氧树脂，聚氨酯或环氧改性的丙烯酸酯发生反应形成所述互穿交联网状结构。6.如权利要求2所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度小于或等于500纳米；所述前驱体层的厚度小于或等于100纳米。7.如权利要求2所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述前驱体层的形成方法包括涂布或真空沉积而成。8.如权利要求2所述的显示面板制造方法，其特征在于，所述前驱体层的固化方法包括热固化和光固化。9.如权利要求1所述的显示面板制造方法，其特征在于，在所述步骤“刻蚀所述待刻蚀层”之后还包括步骤：移除所述抗蚀刻层。10.一种显示面板，其特征在于，显示面板采用如权利要求1至9中任一项所述的显示面板制造方法制造而成。2CN115985763A说明书1/4页显示面板制造方法及显示面板技术领域[0001]本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板制造方法及显示面板。背景技术[0002]在半导体显示领域中，集成电路上容纳的晶体管的数目，每隔18‑24个月就会增加一倍，性能也将提升一倍。集成电路越精密，对光刻胶材料的抗刻蚀性提出了更高的要求。在半导体显示领域，在20纳米技术中，光刻胶的厚度只有300‑500纳米左右，为了提高光刻胶的抗刻蚀性能。现有技术主要有：增加光刻胶的厚度，但对材料高宽比提出了更高的要求，对材料造成了浪费，且光强沿深度方向的分布不均匀。[0003]因此，当前显示面板的制造过程中存在光刻胶厚度太薄时抗刻蚀性能差的问题。发明内容[0004]本申请实施例提供一种显示面板制造方法及显示面板，可以解决当前显示面板的制造过程中存在光刻胶厚度太薄时抗刻蚀性能差的问题[0005]本申请实施例提供了一种显示面板制造方法，包括如下步骤：[0006]提供一基底，在所述基底上形成待刻蚀层；[0007]在所述待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层，其中所述抗蚀刻层为互穿交联网状结构；[0008]刻蚀所述待刻蚀层。[0009]可选地，在本申请的一些实施例中，所述步骤“在所述待刻蚀层上形成图案化的抗蚀刻层”包括：[0010]在所述待刻蚀层上形成图案化的光刻胶层；[0011]在图案化的所述光刻胶层上形成前驱体层；以及[0012]固化所述前驱体层，其中在固化过程中，所述光刻胶层的材料和所述前驱体层的材料反应形成所述互穿交联网状结构。[0013]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光刻胶层的材料包括i紫外光刻胶、深紫外光刻胶或极紫外光刻胶；[0014]所述前驱体层的材料包括环状结构的基团。[0015]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光刻胶层的材料包括酚醛树脂；[0016]