料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法.pdf
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料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法.pdf
本发明提供一种料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法,包括机架,该机架沿长度方向上下布置有第一水平导轨和第二水平导轨;设置在机架中部的第一吸附组件,该第一吸附组件能够沿着第一水平导轨的行程移动并对基材进行吸附;设置在机架中部的第二吸附组件,该第二吸附组件能够沿着第二水平导轨的行程移动并对基材进行吸附;以及设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构,该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。通过在基材悬空的中间部位设置起支撑作用的吸附组件,还能够对基材进行吸附,并且在基材两端设置端部夹紧机构,从而使得在
双面卷对卷激光直写曝光机.pdf
本发明提供一种双面卷对卷激光直写曝光机,包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置,以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置,所述涨紧装置包括支撑机构,该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑;通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定;以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构;在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构,使得在曝光过程中基材始终被夹紧,避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移,从而影响曝光精度。
曝光机的真空曝光装置.pdf
本发明揭示了一种曝光机的真空曝光装置,用于对网版(13)进行曝光制版,包括曝光灯(6)和真空吸气系统(7),所述曝光机的真空曝光装置还包括设置于所述曝光灯(6)下方的上密封组件(1)和下密封组件(2),所述上密封组件(1)和下密封组件(2)之间形成一个密闭的空间(3),所述真空吸气系统(7)可对所述空间(3)抽真空,所述下密封组件(2)设置有放置所述网版(13)的活动件(4),所述上密封组件(1)包括玻璃板(5),所述真空吸气系统(7)对所述空间(3)抽真空时,所述活动件(4)向上运动,带动所述网版(13
一种曝光机的上料装置.pdf
本实用新型公开了一种曝光机的上料装置,包括底板和平移组件;底板:底板的表面中部设有曝光机,且底板的表面设有上料架,上料架的上表面中部开有通槽,上料架的两个相对侧面均设有物料框,物料框内设有续料组件;平移组件:平移组件包括支板、第一电机、第一丝杆和滑块,支板设于上料架的侧面,第一电机设于支板的表面,第一丝杆转动连接在上料架上表面的通槽内,滑块通过中部的螺纹孔螺纹连接在第一丝杆上,且滑块与通槽的内侧面滑动配合,且第一丝杆的一端与第一电机的输出轴固定连接,且平移组件上设有升降组件,本曝光机的上料装置,可自动完成
曝光装置、及曝光装置的设计方法.pdf
本发明提供一种曝光装置,最合适地配置多个灯。曝光装置(10)具备由多个灯(12)构成的灯组(11)、和接收来自多个灯(12)的光来提高该光的均一性的积分器(14),曝光装置(10)满足以下的条件式1及2,由此可以解决上述课题。条件式1为a≦tanθ1×L×2,条件式2为θ1-θ2=θ3,其中,a为灯组的纵×21尺寸及横×21尺寸L为灯组的出光位置至积分器的入射位置的距离θ1为×08灯的光轴和积分器的中心轴形成的角度内的最大值θ2为来自×08灯的光的孔径角θ3为积分器入射角。