双面卷对卷激光直写曝光机.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115963706A(43)申请公布日2023.04.14(21)申请号202310007548.8(22)申请日2023.01.04(71)申请人合肥芯碁微电子装备股份有限公司地址230088安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼(72)发明人叶飞项宗齐(74)专利代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙)34115专利代理师娄岳(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称双面卷对卷激光直写曝光机(57)摘要本发明提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。CN115963706ACN115963706A权利要求书1/1页1.一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，其特征在于，所述涨紧装置包括：支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；以及设置在多个支撑杆输送方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。2.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述端部夹紧机构包括上下布置的上辊轮和下辊轮，以及用于带动上、下辊轮夹紧的夹紧气缸。3.根据权利要求2所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述夹紧气缸包括用于驱动上辊轮运动的第一夹紧气缸和第二夹紧气缸，以及用于驱动下辊轮运动的第三夹紧气缸和第四夹紧气缸，其中上、下辊轮的两端分别设置有第一安装板和第二安装板，所述第一夹紧气缸和第三夹紧气缸分别设置在第一安装板的两侧，所述第二夹紧气缸和第四夹紧气缸分别设置在第二安装板的两侧。4.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述涨紧装置还包括用于对基材侧边进行夹紧的侧面夹紧机构，该侧面夹紧机构包括圆杆以及安装在圆杆两端的固定座，其中一个固定座上设置有用于驱动圆杆转动的摆动气缸，所述圆杆上沿其长度方向设置有多个用于夹紧基材侧边的夹紧块。5.根据权利要求4所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述夹紧块通过扭簧固定在所述圆杆上。6.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述支撑机构还包括设置在非曝光区域中的吸附机构，该吸附机构的吸附表面与多个支撑杆的支撑面处于同一水平面上。7.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述支撑机构还包括驱动机构，该驱动机构能够带动多个支撑杆沿着导轨产生步进移动。8.根据权利要求1所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述涨紧装置的上下方分布设置有上曝光组件和下曝光组件。9.根据权利要求8所述的双面卷对卷激光直写曝光机，其特征在于，所述涨紧装置还包括升降组件，该升降组件用于调节多个支撑杆的高度，使基材高度处于上、下曝光组件的焦面上。2CN115963706A说明书1/3页双面卷对卷激光直写曝光机技术领域[0001]本发明涉及激光直写曝光技术领域，具体涉及一种双面卷对卷激光直写曝光机。背景技术[0002]传统的双面曝光机，在基材的下方用玻璃支撑，保证基材处于一个平整的状态，使基材在曝光镜头的焦深范围内，达到最佳的曝光效果。用玻璃支撑虽然可以满足曝光的要求，但是玻璃上难免会落下灰尘或者脏污，而且在曝光过程中比较难以清洁，造成产品的良率下降。[0003]最新的双面曝光机通过两侧的收放卷机，将基材卷料拉紧伸直，处于悬空状态，避免了使用玻璃支撑时带来的灰尘和脏污，但由于基材属于软性材料，中间悬空部分一般也比较长，在自身重力作用下，难免会在悬空中心处产生下垂变形，影响精度。另外，平台运动过程中会不可避免产生振动，在曝光过程中未采用任何固定措施，平台移动所带来的振动及基材自身的微小振动都会对曝光精度产生影响。发明内容[0004]本发明提供一种能够减小曝光过程中卷式基材产生振动和位移的双面卷对卷激光直写曝光机。[0005]为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：[0006]一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括：[0007]支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个