用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置及清洗方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116013809A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202211424646.3B08B1/02(2006.01)(22)申请日2022.11.15B08B3/02(2006.01)(71)申请人江苏美科太阳能科技股份有限公司地址212200江苏省镇江市扬中经济开发区光明路198号(72)发明人王艺澄(74)专利代理机构南京经纬专利商标代理有限公司32200专利代理师徐澍(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/687(2006.01)H01L21/02(2006.01)B08B11/00(2006.01)B08B11/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置及清洗方法(57)摘要本发明公开一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置及清洗方法，启动第一电机带动转动盘转动，喷头对单晶硅片的内侧面进行清洗；当夹块和齿轮转至矩形齿条处时，齿轮和矩形齿条啮合，齿轮自转半圈，单晶硅片内外两侧面反转，喷头对单晶硅片反转过来的外侧面进行清洗；在底座上表面边缘处一周有间隔地固定设置多个固定板，每个固定板在面对夹块的一侧设有能转动的清洁器，清洁器内侧面是清洁面且与每个单晶硅片外侧面相接触，对旋转的单晶硅片的外侧面进行清洁；能够往复地对单晶硅片的两面均进行清洗，结构简单，既节省人力又节省物力。CN116013809ACN116013809A权利要求书1/1页1.一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，包括一个水平布置的圆筒形底座（1），底座（1）内部底部固定设有垂直的第一电机（2），第一电机（2）输出端竖直向上固定连接一个转动盘（3），其特征是：转动盘（3）中心上方设有喷头（7）；转动盘（3）上盘面边缘处沿圆周方向装有多个支撑柱（4），每个支撑柱（4）顶部固定夹块（5），每个夹块（5）上卡有竖直的单晶硅片；每个支撑柱（4）中间段外都同轴心固定套有一个齿轮（12），每个支撑柱（4）的底部都通过一个转动连接柱（14）有摩擦且可旋转地连接转动盘（3）；底座（1）上表面边缘处固定一个矩形齿条（13），矩形齿条（13）长度方向是沿圆周的切向，矩形齿条（13）能与每个齿轮（12）相啮合，矩形齿条（13）齿数是齿轮（12）齿数的一半。2.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：底座（1）上表面边缘处一周有间隔地固定设置多个固定板（8），每个固定板（8）在面对夹块（5）的一侧连接有一上一下的两个圆盘形的清洁器（10），两个清洁器（10）侧边通过环形齿条（11）相啮合，两个清洁器（10）内侧面是清洁面且与每个单晶硅片的外侧面相接触；第二电机（9）中心轴沿径向水平布置且输出端与其中一个清洁器（10）的中心固定连接。3.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：上方的清洁器（10）的外径大于下方的清洁器（10）的外径。4.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：每个夹块（5）呈半球形，每个夹块（5）的正中间开有凹槽，一个待清洗的单晶硅片竖直卡在一个凹槽中。5.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：转动盘（3）的上表面与底座（1）的上表面平齐或高于底座（1）的上表面。6.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：每个支撑柱（4）底部同轴心固定连接一个转动连接柱（14），转动连接柱（14）为圆柱形，转动盘（3）在转动连接柱（14）的相应位置处设有圆形的安装槽（16），安装槽（16）的内侧壁上设置有多个第一摩擦凸块（17），转动连接柱（14）的外侧壁上设置有多个第二摩擦凸块（15），转动连接柱（14）套入安装槽（16）内，第一摩擦凸块（17）和第二摩擦凸块（15）相契合。7.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置，其特征是：第二摩擦凸块（15）和第一摩擦凸块（17）的材质为柔性材质。8.一种如权利要求1所述的一种用于单晶硅片的旋转式双面清洗装置的清洗方法，其特征是：启动第一电机（2）带动转动盘（3）转动，喷头（7）对单晶硅片的内侧面进行清洗；当夹块（5）和齿轮（12）转至矩形齿条（13）处时，齿轮（12）和矩形齿条（13）啮合，齿轮（12）自转半圈，单晶硅片内外两侧面反转，喷头（7）对单晶硅片反转过来的外侧面进行清洗。9.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征是：在底座（1）上表面边缘处一周有间隔地固定设置多个固定板（8），每个固定板（8）在面对夹块（5）的一侧设有能转动的清洁器（10），清洁器（10）内侧面是清洁面且与每个单晶硅片外侧面相接触，对旋转的单晶