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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109300831A(43)申请公布日2019.02.01(21)申请号201811450009.7(22)申请日2018.11.30(71)申请人湖南文理学院地址415000湖南省常德市武陵区洞庭大道3150号(72)发明人蔡剑华彭建英黎小琴彭元杰(74)专利代理机构上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙)31298代理人刘红祥(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)H01L21/683(2006.01)C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图6页(54)发明名称一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置(57)摘要本发明公开了一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,包括立杆和连接头,所述立杆的下方固定有通气管,且通气管的下方安装有防护罩,所述防护罩的内表面安装有出气盘,所述滑座的上方安装有支撑杆,所述连接头的下方与支撑杆的上端相互连接,且连接头的外侧通过承重架与承托盘相互连接,所述立杆的上端从下往上依次从连接头、承托盘和调控盒的表面贯穿,所述立杆的下端通过通气管与出气盘为贯通连接。该磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,在拾取基片时,拉杆带动活塞进行上下移动,起到了对基片进行散热的作用,并且当活塞向上移动时,防护罩内部的一瞬间的气体小于外界的气压,从而便于将基片吸出。CN109300831ACN109300831A权利要求书1/1页1.一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,包括立杆(1)和连接头(11),其特征在于:所述立杆(1)的下方固定有通气管(2),且通气管(2)的下方安装有防护罩(3),所述防护罩(3)的内表面安装有出气盘(4),且出气盘(4)的下表面开设有出气口(5),所述防护罩(3)的上表面开设有导向滑轨(9),且导向滑轨(9)的内部安装有滑座(8),所述滑座(8)的上方安装有支撑杆(10),所述连接头(11)的下方与支撑杆(10)的上端相互连接,且连接头(11)的外侧通过承重架(12)与承托盘(13)相互连接,所述立杆(1)的上端从下往上依次从连接头(11)、承托盘(13)和调控盒(14)的表面贯穿,且连接头(11)与立杆(1)的外壁为垂直滑动连接,所述承托盘(13)的上方安装有调控盒(14),且调控盒(14)上表面的右端被第一把手(17)贯穿,所述立杆(1)的上端被拉杆(18)贯穿安装,且拉杆(18)的下端固定有活塞(19),所述立杆(1)外侧上端安装有第二把手(21),且第二把手(21)位于第一把手(17)的左侧,所述立杆(1)设置为中空的结构,且其的内壁与活塞(19)构成滑动摩擦结构,所述立杆(1)的下端通过通气管(2)与出气盘(4)为贯通连接。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述立杆(1)的外侧开设有螺纹(22),且螺纹(22)与固定轮(15)的内表面为咬合连接。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述滑座(8)与导向滑轨(9)构成滑动结构,且该滑动结构在防护罩(3)的表面等角度设置有3个。4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述滑座(8)的下方安装有夹板(6),且夹板(6)的内表面固定有导热硅胶垫(7)。5.根据权利要求4所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述夹板(6)的内侧表面设置为倾斜的结构,且其的下端宽度小于上方的宽度。6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述支撑杆(10)的上端设置为倾斜的结构,且其的上端与承托盘(13)构成转动结构,并且支撑杆(10)的下端与滑座(8)构成转动结构。7.根据权利要求2所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述连接头(11)和承托盘(13)的中心处均被立杆(1)贯穿安装,且连接头(11)和承托盘(13)中心孔径大于螺纹(22)的外径。8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述调控盒(14)的内部安装有固定轮(15)和转动齿轮(16),且固定轮(15)的下端与承托盘(13)的上表面为转动连接,所述固定轮(15)的右侧连接有转动齿轮(16),且转动齿轮(16)上表面的中心处安装有第一把手(17)。9.根据权利要求8所述的一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置,其特征在于:所述转动齿轮(16)的外侧等角度设置有固定齿(20),且固定齿(20)在转动齿轮(16)的外侧分布有二分之一圈,并且固定齿(20)在转动齿轮(16)啮合连接。2CN109300831A说明书1/4页一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置技术领域[0001]本发明涉及物