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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112117222A(43)申请公布日2020.12.22(21)申请号202011064354.4(22)申请日2020.09.30(71)申请人李娜地址201800上海市嘉定区城北路1818弄1号-30号(72)发明人李娜(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/687(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称一种晶圆蚀刻载具设备(57)摘要本发明公开了一种晶圆蚀刻载具设备,其结构包括蚀刻箱、控制器、观察窗口、排液管、滑块,控制器通过螺栓连接于蚀刻箱前侧,观察窗口嵌设于蚀刻箱右上表面,排液管贯穿于蚀刻箱右壁,滑块通过活动卡合连接于蚀刻箱前侧,本发明的有益效果在于:将晶圆放置在置物槽中,晶圆下压夹紧板使受压的支撑杆向下挤压支撑弹簧,使得夹紧板两端翘起将晶圆夹持固定,避免在蚀刻过程中晶圆晃动,置物板在底板表面滑动的过程中晶圆与擦拭块接触,晶圆推动刷拭器使转辊转动至挡板右端与限位辊接触状态,在弹性片的弹力与支撑块的支撑下使得刷条能够来回摆动,便于对晶圆表面进行刷拭,以免晶圆表面含有杂质影响后续对晶圆的安装。CN112117222ACN112117222A权利要求书1/1页1.一种晶圆蚀刻载具设备,其结构包括蚀刻箱(1)、控制器(2)、观察窗口(3)、排液管(4)、滑块(5),所述控制器(2)通过螺栓连接于蚀刻箱(1)前侧,所述观察窗口(3)嵌设于蚀刻箱(1)右上表面,所述排液管(4)贯穿于蚀刻箱(1)右壁,所述滑块(5)通过活动卡合连接于蚀刻箱(1)前侧,其特征在于:所述蚀刻箱(1)包括隔板(11)、底板(12)、升降器(13)、顶板(14)、置物板(15)、擦拭块(16),所述隔板(11)垂直嵌固于蚀刻箱(1)左内部,所述底板(12)底部通过焊接连接于蚀刻箱(1)内底部表面,所述升降器(13)底端通过配合安装于底板(12)上表面,所述顶板(14)嵌固于升降器(13)顶部,所述置物板(15)下表面紧贴于顶板(14)上表面。2.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述置物板(15)包括限位板(151)、夹紧板(152)、置物槽(153),所述限位板(151)底部焊接在置物板(15)上表面,所述夹紧板(152)嵌固于限位板(151)内侧,所述置物槽(153)嵌设于夹紧板(152)上表面。3.根据权利要求2所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述夹紧板(152)包括定位块(a1)、支撑杆(a2)、推块(a3),所述定位块(a1)与夹紧板(152)底部为一体化结构,所述支撑杆(a2)通过间隙连接于定位块(a1)上壁,所述推块(a3)底部紧贴于支撑杆(a2)顶端。4.根据权利要求3所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述支撑杆(a2)包括定位板(a21)、吸快(a22)、支撑弹簧(a23)、固定板(a24),所述定位板(a21)顶部通过焊接连接于支撑杆(a2)底端,所述吸快(a22)与支撑弹簧(a23)顶端分别嵌固于定位板(a21)下表面,所述固定板(a24)通过焊接连接于支撑弹簧(a23)末端且嵌固于定位块(a1)内底部。5.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述擦拭块(16)包括固定杆(161)、限位辊(162)、转辊(163),所述固定杆(161)顶端焊接在擦拭块(16)内底部,所述限位辊(162)通过活动卡合连接于擦拭块(16)内底部,所述转辊(163)通过螺栓连接于固定杆(161)末端。6.根据权利要求5所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述转辊(163)包括挡板(b1)、滑槽(b2)、刷拭器(b3),所述挡板(b1)安装在转辊(163)内部,所述滑槽(b2)嵌设于挡板(b1)上表面,所述刷拭器(b3)顶端通过焊接连接于挡板(b1)底部。7.根据权利要求6所述的一种晶圆蚀刻载具设备,其特征在于:所述刷拭器(b3)由组成刷条(b31)、凹块(b32)、支撑块(b33)、弹性片(b34),所述凹块(b32)嵌设于刷条(b31)外表面,所述支撑块(b33)通过焊接连接于两跟刷条(b31)之间,所述弹性片(b34)左右两端分别嵌固于左右两侧的刷条(b31)内侧。2CN112117222A说明书1/4页一种晶圆蚀刻载具设备技术领域[0001]本发明涉及晶圆蚀刻领域,尤其是涉及到一种晶圆蚀刻载具设备。背景技术[0002]晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅,在对晶圆加工时,使用晶圆蚀刻载具设备将已被切割的晶圆进行固定转移,再通过化学反应对晶圆进行蚀刻。[0003]目前现有的一种晶圆蚀刻载具设备,在对晶圆进行蚀刻时,首先将晶圆进行固定在蚀刻篮