温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102633442A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102633442A(43)申请公布日2012.08.15(21)申请号201210117359.8(22)申请日2012.04.19(71)申请人深圳市华星光电技术有限公司地址518000广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号(72)发明人朱美娜赵建君施翔尹(74)专利代理机构深圳市德力知识产权代理事务所44265代理人林才桂(51)Int.Cl.C03C17/32(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书33页页附图附图44页(54)发明名称温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法(57)摘要本发明涉及一种温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法，该装置包括用于从基板下方预干燥基板的加热器、用于向上支撑基板的若干温控针以及温控系统，所述温控针连接至所述温控系统，每个所述温控针可由所述温控系统单独控制温度，以使基板上温控针的支撑位置与支撑位置的周围受热均匀。本发明的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法可以减少玻璃基板表面的受热不均，减少PinMura。CN102634ACN102633442A权利要求书1/1页1.一种温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，包括用于从基板下方预干燥基板的加热器、用于向上支撑基板的若干温控针以及温控系统，所述温控针连接至所述温控系统，每个所述温控针可由所述温控系统单独控制温度，以使基板上温控针的支撑位置与支撑位置的周围受热均匀。2.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述加热器具有与基板表面平行的用于加热基板的平面辐射表面，所述温控针上下穿过所述平面辐射表面。3.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述基板为玻璃基板。4.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述温控针以移动针支撑方式支撑基板。5.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述温控针以顶针支撑方式支撑基板。6.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述加热器为红外线辐射加热器。7.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述加热器为热气流加热器。8.如权利要求1所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置，其特征在于，所述温控针至少包括温度可控制的用于向上支撑基板的末端。9.一种温控针支撑基板进行配向膜预干燥的方法，其特征在于，包括：步骤一、采用若干温控针向上支撑基板；步骤二、采用加热器从基板下方预干燥基板；步骤三、采用温控系统单独控制每个所述温控针的温度，以使基板上温控针的支撑位置与支撑位置的周围受热均匀。10.如权利要求9所述的温控针支撑基板进行配向膜预干燥的方法，其特征在于，所述加热器具有与基板表面平行的用于加热基板的平面辐射表面，所述温控针上下穿过所述平面辐射表面。2CN102633442A说明书1/3页温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法技术领域[0001]本发明涉及配向膜预干燥技术，特别涉及一种温控针支撑基板进行配向膜预干燥的装置及方法。背景技术[0002]配向膜(PI，即聚酰亚胺)预干燥是PI材料在涂布于基板之后(涂布(coating)法或喷墨印刷(inkjet法))、固化(Maincure)之前进行的对PI液内的溶剂进行挥发处理的步骤(将80％的溶剂挥发出来)，PI液的主要成分是聚酰亚胺、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、乙二醇丁醚(BC)等。预干燥的目的是将PI液里面的NMP、BC等溶剂挥发出来，使PI膜平整化。PI预干燥的手段，目前业界内主要是通过红外线辐射加热基板，致使溶剂挥发。此干燥技术的最大制程问题是干燥过程中的受热不均和挥发不均：一是支撑针(pin)与基板的接触会造成接触位置与没接触位置的受热不均，造成由针引起的不均匀(PinMura)；二是边缘区域与中间区域的溶剂挥发速度不均，会造成膜厚不均区域，称之为光晕区(HaloArea)或边缘区(EdgeArea)；进而会影响产品品质。[0003]目前业界均是采用预干燥(prebake)加接触针(proximity)制程的方式。如图1所示，其为现有技术中预烘烤加接触针制程中产生的PinMura示意图，经预干燥的基板1上以环形标出的区域中具有PinMura10。PinMura的产生原因是支撑基板的接触针(proximity)不是完全绝热的，因而在预烘烤(prebake)时候会造成支撑部位与不支撑部位的受热不均，进而影响到基板表面的PI液挥发的均一性，致使基板表面产生PinMura。[0004]现有技术中减小PinMura的方式主要有两种：一是改良p