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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106255924A(43)申请公布日2016.12.21(21)申请号201580022264.XN·E·德克鲁伊杰夫M·达萨(22)申请日2015.04.23M·霍本J·G·M·穆尔德T·波伊兹(30)优先权数据M·A·P·范登赫尤维尔61/989,3132014.05.06USP·范唐根J·J·H·格里特曾61/989,9152014.05.07USA·H·弗维杰A·A·索伊硕特(85)PCT国际申请进入国家阶段日(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所2016.11.0211256(86)PCT国际申请的申请数据代理人王茂华张宁PCT/EP2015/0588312015.04.23(51)Int.Cl.(87)PCT国际申请的公布数据G03F7/20(2006.01)WO2015/169616EN2015.11.12H01L21/683(2006.01)(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温申请人ASML控股股份有限公司(72)发明人M·H·A·里恩德斯权利要求书3页说明书10页附图3页(54)发明名称衬底支座、用于在衬底支撑位置上加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法(57)摘要一种衬底支座(1),包括:配置用于支撑衬底(W)的衬底支撑位置(4),以及配置用于在衬底支撑位置上夹持衬底的真空夹持装置(7),其中真空夹持装置包括用于产生减压的至少一个减压源(8),连接至该至少一个减压源的至少一个真空区段(9),其中配置至少一个真空区段以朝向衬底支撑位置吸引衬底,以及配置用于沿着至少一个真空区段而控制空间压力分布的控制装置(16),采用控制装置由真空夹持装置吸引衬底,其中控制装置包括用于接收表示待夹持衬底的形状数据的衬底形状数据的衬底形状数据输入端(16a),以及其中配置控制装置以依照衬底形状数据而改变空间压力分布。CN106255924ACN106255924A权利要求书1/3页1.一种衬底支座,包括:衬底支撑位置,被配置用于支撑衬底,真空夹持装置,被配置用于在所述衬底支撑位置上夹持所述衬底,其中所述真空夹持装置包括:用于产生减压的至少一个减压源,连接至所述至少一个减压源的至少一个真空区段,其中所述至少一个真空区段被设置并配置为朝向所述衬底支撑位置吸引所述衬底,以及控制装置,被配置用于沿着所述至少一个真空区段控制空间压力分布,借此由所述真空夹持装置吸引所述衬底,其中所述控制装置包括衬底形状数据输入端以接收表示待夹持的衬底的形状数据的衬底形状数据,以及其中所述控制装置被配置为依据所述衬底形状数据修改所述空间压力分布。2.根据权利要求1所述的衬底支座,其中,所述真空夹持装置进一步包括衬底形状传感器以测量待夹持的所述衬底的形状数据,其中所述衬底形状传感器的输出端提供所测量衬底的衬底形状数据。3.根据权利要求1所述的衬底支座,其中,基于与在所述衬底支座上加载所述衬底之前执行的一个或多个工艺步骤相关联的衬底形状行为而确定所述衬底形状数据。4.根据权利要求1所述的衬底支座,其中,所述真空夹持装置进一步包括至少一个压力传感器以测量在所述衬底支撑位置处的压力水平,以及其中所述控制装置包括压力输入端以接收由所述至少一个压力传感器测量的在所述衬底支撑位置处的所述压力水平。5.根据权利要求1所述的衬底支座,其中,所述控制装置被配置为依据所述衬底形状数据修改所述空间压力分布,从而当沿垂直向下方向在所述衬底支座上加载翘曲衬底时,在间隔远离所述衬底支撑位置的衬底部分之下的真空力大于在更靠近所述衬底支撑位置的衬底部分之下的真空力。6.根据权利要求1所述的衬底支座,其中,所述真空夹持装置包括多个真空区段,其中所述多个真空区段中的每一个被设置用于朝向所述衬底支撑位置吸引所述衬底。7.根据权利要求6所述的衬底支座,其中,所述真空夹持装置包括:中央真空区段,环形区域,围绕所述中央真空区段,所述环形区域包括遍布所述环形区域分布的多个真空区段。8.根据权利要求7所述的衬底支座,其中,所述环形区域包括四个真空区段,其中所述四个真空区段中的每一个被设置在所述环形区域的不同的四分之一圆周中。9.根据权利要求6所述的衬底支座,其中,每个真空区段包括至少一个压力传感器以测量在相应真空区段中的压力水平,以及其中所述控制装置包括压力控制输入端以接收在所述相应真空区段中由所述至少一个压力传感器测量的所述压力水平。10.根据权利要求6所述的衬底支座,其中,所述真空夹持装置被配置用于在每个真空区段中产生可调的减压水平,其中所述可调的减压水平由所述控制装置控制。11.根据权利要求10所述的衬底支座,其中,每个真空区段经由至少一个可调约束件连接至所述至少一个减压源,其中所述至少一个可调约束件的至少