图案化屏蔽结构以及集成电感.pdf
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图案化屏蔽结构以及集成电感.pdf
一种图案化屏蔽结构以及一种集成电感。图案化屏蔽结构设置于一电感器结构与一基板之间。图案化屏蔽结构包含一屏蔽层。屏蔽层包含一第一主干部以及多个支干部。第一主干部呈T字状。所述多个支干部连接第一主干部。
CDRH---屏蔽电感电感.pdf
PSCDS系列屏蔽式表面贴装型功率电感数据手册Ver1.02004.05产品型号说明PSCDSCEC国际代号精度电感量封装形式PSCDS功率电感通过用屏蔽磁芯直接连接铁氧体电极尺寸成形,具有良好的屏蔽电磁辐射特性。该系列产品体积小,产品代号工作电流大,适用于各种DC-DC变换器。外形和尺寸PSCDS62B(3.3µH~330µH)PSCDS64B(10µH~1000µH)PSCDS73(10µH~1.0mH)PSCDS74(10µH~1.0mH)PSCDS125(10µH~1.0mH)PSCDS124(3
集成电感结构及制作方法.pdf
本发明提供一种集成电感结构,包括基体,在基体的正面结构和背面结构中分别形成有立体螺旋构型的上导电线圈和下导电线圈;上导电线圈和下导电线圈均有螺旋构型内圈的内端头和螺旋构型外圈的外端头;上导电线圈和下导电线圈除了内端头与外端头之外的其余金属走线相分离;上导电线圈和下导电线圈的内端头通过贯穿基体的第一导电通孔连接;上导电线圈和下导电线圈的外端头各自独立地引出至基体正面和背面中的一个工作面;上导电线圈的外端头与设置在相应引出工作面的线圈第二电引出端连接;下导电线圈的外端头与设置在相应引出工作面的线圈第三电引出端
图案化导电结构的制造方法及图案化导电结构.pdf
一种图案化导电结构的制造方法及图案化导电结构。该图案化导电结构的制造方法包括:在一基底的一表面上形成一可溶性层,其中该可溶性层具有一开口,该开口露出该基底的该表面的一粗糙部分;在该可溶性层上形成一第一导电层,其中该第一导电层延伸至该开口内的该粗糙部分上;以及去除该可溶性层及该可溶性层上的该第一导电层,其中该第一导电层对应于该粗糙部分的一部分保留于该基底上。本发明没有使用含有无电镀处理的活性催化剂的特殊基底,而能够使用具有较佳机械特性及较低价格的一般基底,且图案化导电结构具有更好的质量。
薄型电感结构以及制造方法.pdf
本发明公开一种薄型电感结构以及制造方法,薄型电感结构包括有一线圈、两电极端、一第一导磁片、一第二导磁片以及一本体;该线圈具有两引脚;该两电极端分别电性连接于两引脚;该第一导磁片设置于两电极端之间并位于线圈的下方,该第二导磁片设置在可对应于该第一导磁片的上方,该本体包覆于线圈并将第一导磁片、第二导磁片和两电极黏着住。通过直接利用锡膏将线圈的两引脚暂时黏着在预设的客制化导线架的两电极端处,然后进回焊炉内进行锡膏熔融而使线圈上的两引脚与导线架上之两电极端焊接固定住,因而使线圈上的两引脚与导线架上之两电极端间不需