含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物及其制备和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112661974A(43)申请公布日2021.04.16(21)申请号202110132349.0(22)申请日2021.01.31(71)申请人太原理工大学地址030024山西省太原市迎泽西大街79号(72)发明人武钰铃王米穴张伟玄刘若云赵浩成苗艳勤李洁王华(74)专利代理机构太原华弈知识产权代理事务所14108代理人李毅(51)Int.Cl.C08G83/00(2006.01)C09K11/06(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图6页(54)发明名称含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物及其制备和应用(57)摘要本发明涉及一种含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物，含有摩尔百分含量0.9～19.9%的螺[3.3]庚烷‑2,6‑二螺芴支化中心结构单元、摩尔百分含量80～99%的含氟低聚倍半硅氧烷改性芴单体单元和9,9‑二辛基芴单体单元线型无规排列的超支化链结构单元、以及摩尔百分含量0.01～0.1%的4,7‑双(5‑噻吩基)‑2,1,3‑苯并噻二唑调光基团结构单元，其数均分子量Mn=4000～15000。本发明超支化共聚物作为有机发光材料应用于有机电致发光器件中能够发射稳定白光，优化器件界面问题，提高器件的稳定性和寿命。CN112661974ACN112661974A权利要求书1/2页1.一种含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物，含有摩尔百分含量0.9～19.9%的支化中心结构单元、摩尔百分含量80～99%的超支化链结构单元、以及摩尔百分含量0.01～0.1%的调光基团结构单元，共聚物的数均分子量Mn=4000～15000；其中，所述的支化中心结构单元为具有通式（I）结构的螺[3.3]庚烷‑2,6‑二螺芴结构单元：；所述的超支化链结构单元为含有通式（II）结构的含氟低聚倍半硅氧烷改性芴单体单元和通式（III）结构的9,9‑二辛基芴单体单元的线型无规排列的结构单元：基团B为具有下述通式（IV）结构的多面体齐低聚倍半硅氧烷基：其中，R代表氟取代的烃基或芳基，n代表2～8的整数，m代表2～8的整数；所述的调光基团结构单元为具有通式（III）结构的4,7‑双(5‑噻吩基)‑2,1,3‑苯并噻二唑结构单元：。2.根据权利要求1所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物，其特征是所述超支化链结构单元中通式（II）结构的含氟低聚倍半硅氧烷改性芴单体单元的摩尔百分含量不少于0.8%。3.根据权利要求1所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物，其特征是R是三氟丙基、4‑(三氟甲基)苯基或五氟苯基。2CN112661974A权利要求书2/2页4.根据权利要求1所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物，其特征是n为2、5或7，以及m为2～5的整数。5.权利要求1所述含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物的制备方法，是以螺[3.3]庚烷‑2,6‑二‑(2’,2”,7’,7”‑四溴)螺芴为支化中心原料，分别以2,7‑二溴‑9,9‑二辛基芴，9,9‑二辛基芴‑2,7‑二硼酸嚬哪醇酯，含氟低聚倍半硅氧烷改性的2,7‑二溴芴为单体，4,7‑双(2‑溴‑5‑噻吩基)‑2,1,3‑苯并噻二唑为调光基团原料，在催化剂四(三苯基磷)钯和相转移催化剂甲基三辛基氯化铵存在下，在惰性气体保护下的含有碳酸钠的溶剂甲苯中，加热回流进行Suzuki偶联反应制备得到超支化共聚物。6.根据权利要求5所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物的制备方法，其特征是按照每克反应原料计，加入10～80mL溶剂甲苯，以及甲苯体积30～80%的2mol/L碳酸钾溶液。7.根据权利要求5所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物的制备方法，其特征是所述加热回流反应温度60～100℃，回流反应时间72～96h。8.根据权利要求5所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物的制备方法，其特征是催化剂四(三苯基磷)钯的加入量为反应官能团摩尔量的1～5%。9.根据权利要求5所述的含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物的制备方法，其特征是相转移催化剂为甲基三辛基氯化铵，加入量为反应官能团摩尔量的1～5%。10.权利要求1所述含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物作为有机电致发光器件中有机发光材料的应用。3CN112661974A说明书1/10页含氟低聚倍半硅氧烷改性超支化共聚物及其制备和应用技术领域[0001]本发明属于超支化白光共聚物制备技术领域，涉及一种利用笼状多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)为改性材料的基于螺[3.3]庚烷‑2,6‑二螺芴支化中心的超支化白光共聚物，以及该共聚物的制备方法。背景技术[0002]有机电致发光器件(OLED)使用的有机发光材料主要可以分为两类：小分子发光材料和聚合物发光材料。[0003]从实验提纯上来看，小分子