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本实用新型公开了高耐污高光膜及薄膜生产设备,高耐污高光膜包括:基材层、UV涂层一、UV涂层二,所述基材层一侧与UV涂层一连接,所述UV涂层一远离基材层的一侧与UV涂层二连接,所述基材层与UV涂层一连接的一侧设有高光压纹面,所述基材层为PETG材质。本实用新型的有益效果为:1、本高耐污高光膜拥有高耐划性能与高耐污性能,耐划等级可以达到3H?4H,且拥有高光效果;2、本薄膜生产设备可以将基材层镜面化,然后涂覆两层UV涂层。