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一种可用于规模化生产ArF光刻胶树脂及其制备工艺.pdf
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一种可用于规模化生产ArF光刻胶树脂及其制备工艺.pdf
本发明适用于功能高分子材料领域,提供了一种可用于规模化生产ArF光刻胶树脂的制备工艺,包括:(1)清洗微通道反应设备;(2)设定微通道反应器加热温度为60?80℃,分别开启溶剂进料泵、丙烯酸酯单体进料泵和偶氮二甲酯类引发剂进料泵;(3)反应液进入微通道反应器后,通过阀门控制管路压力为1?5MPa;(4)在取样口接收反应液样品进行在线分析,检测结果合格后,将终端阀门切换至产品罐,反应结束后关闭管路阀门。本发明由于采用特殊的引发剂偶氮二甲酯类引发剂结合使用微通道反应设备,合理控制流速、温度和压力,制备的ArF
2023-05-24
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一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂及其制备方法.pdf
本发明适用于电路制造材料技术领域，提供了一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂及其制备方法。该ArF光刻胶树脂含有如下按重量百分比计的组分：10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0％～25％非极性单体和0％～15％腈基单体。本发明引入腈基结构，可以增加树脂与基材表面的作用力，增加黏附性，且腈基与硅烷偶联剂不同，不会与基材表面分子形成化学键。因此，在显影过程中可轻松去除，不会产生残留。使用本发明的ArF光刻胶树脂制备的光刻胶具有优异的黏附性，曝光区内的光刻胶没有残留，减小了光刻图形缺陷，提升了产品良
2023-11-14
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一种可正性光刻胶用聚酰亚胺树脂及其制备方法.pdf
本发明公开了一种正性光刻胶用，新型光敏聚酰亚胺树脂及其制备方法，该聚酰亚胺树脂的结构式中含有酸性基团——羧基，由于羧基的存在，该聚酰亚胺树脂在碱性显影液中具有一定的溶解性，其与重氮萘醌磺酸酯搭配可以制备碱显影的正性聚酰亚胺光刻胶。本发明公布的光敏聚酰亚胺树脂制备工艺简单，反应条件温和，易放大生产。由于该树脂在制备过程中已经完全亚胺化，所以光刻图形时不需高温固化处理，光敏树脂也无须低温保存，碱性水溶液中显影对环境友好。由该聚酰亚胺树脂所制备的光刻胶具有留膜率和对比度高、固化温度低、图形分辨率好、可室温保存等
2023-11-14
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一种可导电的树脂结合剂砂轮及其制备工艺.pdf
本发明是基于树脂结合剂CBN砂轮的使用要求和制造方法，设计一种可导电的树脂结合剂砂轮，采用以下原料制备得到，以重量百分比计，酚醛树脂粉10%‑50%、钴粉19%‑45%、白刚玉微粉14%‑34%、硅烷偶联剂1%‑5%，余量为CBN磨料。相对于电铸CBN砂轮，其在加工成本和尺寸稳定性等方面具有大幅改善提升的优势，相对于普通树脂结合剂CBN砂轮，其在异型工作面加工方面具有高效、高精度加工的优势，以满足轴承套圈沟道槽、精密液压夹具沟道以及淬火后齿轮等材料的高效、高精密加工要求。
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一种可导电的树脂结合剂砂轮及其制备工艺.pdf
本发明是基于树脂结合剂金刚石砂轮的使用要求和制造方法，设计一种可导电的树脂结合剂砂轮，采用以下原料制备而成，以重量百分比计，双马来酰亚胺树脂粉10%‑55%、锑粉17‑45%、绿碳化硅微粉12%‑20%、硅烷偶联剂1%‑5%，余量为金刚石粉。相对于金属结合剂金刚石砂轮，磨削锋利性及工件表面质量等方面具有大幅改善提升的优势，相对于树脂结合剂金刚石砂轮，对于异型工作面的加工具有高效、高精度加工的优势，以满足超精密数控合金刀具、异型精密玻璃/陶瓷电子元器件等材料的高效、高精密加工要求。
2023-08-27
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