一种CC复合材料SiB6-Glass抗氧化涂层及其制备方法.pdf
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SiC晶须的原位生长及其在CC复合材料抗氧化涂层中的应用概述SiC晶须是一种重要的无机纳米材料,具有高的强度、硬度、耐磨性和高温稳定性等特点,被广泛应用于材料领域。然而,传统的制备方法存在成本高、品质难以控制等问题。近年来,通过原位生长技术制备SiC晶须成为研究热点。本文将介绍SiC晶须的原位生长机制及其在CC复合材料抗氧化涂层中的应用。原位生长机制SiC晶须的原位生长是指在陶瓷或金属基底上生长SiC晶须的过程。该技术是通过化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等方法实现的。在CVD中,SiH4或