预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/7
2/7
3/7
4/7
5/7
6/7
7/7

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

本发明提供了一种激光划刻方法,包括:提供一待处理膜层,所述待处理膜层位于基底一侧;将所述基底背离所述待处理膜层的一侧放置在液体光介质层上;在所述待处理膜层背离所述基底的一侧进行激光划刻处理。该激光划刻方法在对待处理膜层进行激光划刻之前,将基底和液体光介质层接触,该液体光介质层的折射率与基底的折射率相匹配,从而降低基底和液体光介质层接触界面的反射现象,使该接触界面几乎不发生反射,并且透过液体光介质层的光子被吸光结构直接吸收从而保护该待处理膜层,最终提高器件的工作性能。