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有机器件、掩模组以及掩模.pdf

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本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备:基板;位于基板上的第1电极;位于第1电极上的有机层;以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下,有机器件可以具备:第1显示区域,其包含具有第1占有率的第2电极;和第2显示区域,其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含:第2电极;和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含:第1透射区域;和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是,第1透射区域具有第1形状,第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。