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一种半导体装置,具备被埋入到第1槽内的JFET区域,该第1槽设置在氮化物半导体层的元件部的一个主面,在氮化物半导体层的周边耐压部,在氮化物半导体层的一个主面设有第2槽,与沟道部邻接的第1槽的侧面的倾斜角小于第2槽的侧面的倾斜角。