

一种大畴区石墨烯单晶的制备方法.pdf
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一种大畴区石墨烯单晶的制备方法.pdf
本申请提供一种大畴区石墨烯单晶的制备方法,其包括如下步骤:1)在微量氧化气氛对蓝宝石/金属基底进行退火;2)按照生长气体比例梯度增加的方式提供生长气体,在所述蓝宝石/金属基底上生长得到所述大畴区石墨烯单晶。本发明采用在单晶金属/蓝宝石晶圆基底上利用“外延+取向一致拼接”的方法制备单晶石墨烯薄膜,并且通过“微氧钝化退火+梯度供气”的方式,克服了在拼接过程中会出现的一定程度的转角或者缺陷,使得制得的单晶石墨烯薄膜更加完美,大大提高了所得石墨烯膜的品质,并且所得的石墨烯呈单晶形式,且所得石墨烯单晶畴区尺寸大,畴
一种单晶畴、多晶畴石墨烯及其制备方法.pdf
本发明涉及石墨烯基础研究及应用技术领域,尤其涉及一种单晶畴、多晶畴石墨烯及其制备方法。本发明提供了一种单晶畴、多晶畴石墨烯及其制备方法,包括以下步骤:在空气气氛下,将石墨烯薄膜加热至130~150℃,退火5~10min,得到单晶畴、多晶畴石墨烯。本发明不需要精确控制制备中的反应条件,甚至可直接购买到原材料,仅需较简单、极其容易控制的实验操作即可获得单晶畴、多晶畴石墨烯样品。即:通过极易获得(实验上制备简单,且已商业化,可通过购买的方式获得)的石墨烯薄膜,通过退火等处理方式获得极难制备的单晶畴、多晶畴石墨烯
单晶石墨烯的制备方法.pdf
本发明适用于半导体材料制备技术领域,提供了一种单晶石墨烯的制备方法,包括:在预设衬底上沉积铜和镍;将沉积了铜和镍的衬底在第一预设气体氛围以及第一预设温度下退火处理第一预设时间,得到铜镍合金衬底样品;将铜镍合金衬底样品在第二预设气体氛围以及第二预设温度下氧化第二预设时间,得到氧化衬底样品;将氧化衬底样品放置在化学气相沉积CVD炉中,将CVD炉中温度快速升温到第三预设温度后,在CVD炉中通入第三预设气体,在氧化衬底样品上生长第三预设时间后,停止通入第三预设气体,并采用第四预设气体保护,快速降温至第四预设温度,
一种大晶畴尺寸的石墨烯薄膜制备装置.pdf
本发明公布了一种大晶畴尺寸的石墨烯薄膜制备装置,包括生长炉、基底固定部件、驱动部件,生长炉包括炉管和对炉管加热的加热部件,炉管内部中空,一端设有开口;基底固定部件包括用于密闭开口的盖板和与盖板通过支撑气管连接的主体,主体设置有两组芯轴,两组芯轴外活动套设有基底绕卷轴,基底绕卷轴的两端面设置有固定基底的压片,芯轴为两端开口的中空管,靠近开口的一侧为出气口,背离开口的一侧为进气口,进气口与支撑气管连通,支撑气管与外部气源装置连通;驱动部件与基底固定部件连接;本发明提出一种大晶畴尺寸的石墨烯薄膜制备装置,其目的
一种多层石墨烯畴区柔性透明电极的制备方法.pdf
本发明公开了一种多层石墨烯畴区柔性透明电极的制备方法,用长有石墨烯畴区的铜片去捞取清洗干净的PMMA/石墨烯畴区得到PMMA/双层石墨烯畴区这一方法省去了一次旋涂PMMA的步骤,从而减少了一次PMMA除胶过程,减少了PMMA残留及石墨烯的破损,提高了电极的透光度以及器件的面电阻。另外,采用SDS稀释溶液浸泡PMMA/石墨畴区和柔性基底(PDMS)保证了石墨烯畴区与柔性基底的结合稳定性。利用该方法制作的柔性透明电极能承受很高的断裂应变和高应变下较好的电荷传输能力。本发明提供的柔性基底(PDMS)上多层石墨烯