

阵列基板母板及其检测方法、阵列基板、显示装置.pdf
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相关资料
阵列基板母板及其检测方法、阵列基板、显示装置.pdf
本发明涉及显示技术领域,提出一种阵列基板母板及其检测方法、阵列基板、显示装置。阵列基板母板包括公共探针垫、多个行列分布的阵列基板单元、第一栅极驱动电路、第二栅极驱动电路。阵列基板单元包括阵列基板、检测信号端、开关电路。检测信号端用于向阵列基板发送或接收检测信号;开关电路用于响应第一控制信号端、第二控制信号端的信号以导通公共探针垫和检测信号端;第一栅极驱动电路中第一移位寄存器单元的输出端与同一行开关电路中的第一控制信号端连接;第二栅极驱动电路中第二移位寄存器单元的输出端与同一列开关电路中的第二控制信号端连接
阵列基板及母板.pdf
本申请提供一种阵列基板及母板,在阵列基板中,依次设置有基底、第一金属层、绝缘层、有源层和第二金属层,绝缘层覆盖所述显示功能区和所述冗余区;所述有源层设置在所述显示功能区和所述冗余区。本申请通过在冗余区上保留有源层,利用有源层的压应力平衡第一金属层或/第二金属层的翘应力,进而避免基底发生翘曲。
阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置.pdf
本公开提供一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置,属于显示技术领域。本公开的阵列基板的制备方法包括:在基底上形成第一导电层;在第一导电层背离基底的一侧形成第二导电层;在第二导电层上涂覆光刻胶层,对光刻胶层进行曝光和显影,得到光刻胶的第一保留部分;通过构图工艺形成第一导电图案,以第一导电图案作为掩膜对第一导电层进行刻蚀,得到第二导电图案;对光刻胶的第一保留部分进行灰化处理,得到光刻胶的第二保留部分;以光刻胶的第二保留部分作为掩膜,对第一导电图案进行刻蚀,得到第三导电图案。
阵列基板母板和检测刻蚀残留的方法.pdf
本发明实施例公开了一种阵列基板母板和检测刻蚀残留的方法。该阵列基板母板包括至少一个阵列基板和至少一个测试元件,测试元件用于监控阵列基板的被监控层的刻蚀残留;测试元件包括:测试走线层,测试走线层与阵列基板的被监控层同层设置;测试走线层包括相邻设置的第一测试走线和第二测试走线,第一测试走线和第二测试走线均沿第一方向延伸且绝缘;第一焊盘,位于第一测试走线的一端,第一焊盘与第一测试走线短接;第二焊盘,位于第二测试走线的一端,第二焊盘与第二测试走线短接;其中,通过侦测第一焊盘和第二焊盘的电学参数测试第一测试走线和第
阵列基板及其制造方法、阵列基板的图案偏移的检测方法.pdf
本发明提供一种阵列基板及其制造方法、阵列基板的图案偏移的检测方法。阵列基板包括至少一个设置在衬底基板上的薄膜晶体管和偏移监控图形,薄膜晶体管包括第一半导体图形、第一保护图形、同层设置的源极和漏极;偏移监控图形包括:与第一半导体图形同层设置的第二半导体图形、与第一保护图形同层设置的第二保护图形、以及与源极和漏极同层设置的像素漏极,像素漏极和漏极电连接,第二保护图形覆盖在第二半导体图形之上,且在第二保护图形上设有第二过孔,像素漏极通过第二过孔与第二半导体图形接触;像素漏极的外轮廓覆盖第二过孔的外轮廓。本发明能