缓冲抛光垫.pdf
建英****66
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缓冲抛光垫.pdf
本实用新型公开了一种缓冲抛光垫,包括抛光层和背胶层,还包括中间胶层和缓冲层,所述中间胶层和缓冲层均位于抛光层和背胶层之间,所述缓冲层设在中间胶层和背胶层之间,中间胶层设在缓冲层和抛光层之间。该缓冲抛光垫结构设计合理,结合现有硬质和软质抛光垫的优点,在保证抛光去除率的同时提升了抛光过程中的均匀性;通过缓冲的弹性弥补抛光垫形貌变化对抛光效果的影响,提升不同设备抛光效果的一致性;通过缓冲层的弹性弥补抛光垫形貌变化对抛光效果的影响,因此不需要使用金刚石修整,抛光垫使用寿命大大提升;减少了人力维护,提升生产效率。
抛光垫及使用了该抛光垫的抛光方法.pdf
本发明提供一种具有在pH10.0下的zeta电位为+0.1mV以上的抛光面的抛光垫。优选提供一种含有具有叔胺的聚氨酯的抛光垫。进一步优选具有叔胺的聚氨酯为至少含有具有叔胺的扩链剂的聚氨酯反应原料的反应物。另外,提供一种一边供给使用了这些抛光垫的碱性抛光浆料一边进行的抛光方法。
检测窗抛光垫沟槽的加工方法、抛光层及抛光垫.pdf
本发明检测窗抛光垫沟槽的加工方法,包括如下步骤:步骤一,加工刀具从抛光垫的抛光层的非检测窗区域开始雕刻凹槽,形成基础沟槽;步骤二,当加工刀具接近检测窗时,加工刀具逐渐抬起,直至离开抛光层,形成检测沟槽;其中检测沟槽为倾斜结构。与现有技术相比,本发明有益效果在于:在进行检测窗抛光垫的沟槽加工过程中,在加工刀具跳窗口时,加工刀具起刀点集合面(检测沟槽表面)与抛光层底面之间的夹角≤80度时,加工刀具离开抛光垫时不会产生毛刺,免除了人工打磨毛刺的工序,提高了加工效率,有效地解决了毛刺的问题。
聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光方法.pdf
本发明提供构成能够抑制堵塞、能够抑制损伤的发生并且能够稳定地以长寿命进行抛光的抛光层的聚氨酯、使用了该聚氨酯的抛光层、及抛光垫、以及抛光方法。本发明的聚氨酯具有至少1个以上的来自具有羧基的化合物的结构单元。另外,本发明还提供使用了该聚氨酯的抛光层、抛光垫、以及抛光方法。
聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法.pdf
本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法,或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。