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本发明公开了无线充电用屏蔽膜及其制备方法和制造设备,无线充电用屏蔽膜包括胶层以及通过磁控溅射成型于所述胶层一侧表面的磁性层,所述磁性层为(Fe65Co35)x(TiO2)1?x层,其中,x≥0.76;所述磁性层的饱和磁感应强度Bs≥1.7T。本无线充电用屏蔽膜,相比传统的铁基纳米晶薄带具有更高的饱和磁感应强度和共振频率,提高了无线充电接收端接收线圈的磁耦合效率,从而有效地提高了无线充电功率、效率和速度。