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纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdf

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提供在高温烧成时也显示异常高的疏水性、良好的平坦化性,可以通过变更分子骨架来调整为适应于工艺的光学常数、蚀刻速度的纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛清漆树脂,[在式(1)中,基A表示具有芳香族环、稠合芳香族环、或稠合芳香族杂环的有机基,基B表示具有芳香族环或稠合芳香族环的有机基,基E表示单键、或者可以被取代且可以包含醚键和/或羰基的支链或直链的碳原子数1～10的亚烷基,基D表示式(2)所示的碳原子数1～15的有机基,n表示1～5的数。(式(2)中,R1、R2、R3各自独立地为氟原子、或者直链、支链、或环状的烷基,R1、R2、R3中的任意两者可以相互结合而形成环。)]。