一种单晶硅片退火冷却车.pdf
星菱****23
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一种单晶硅片退火冷却车.pdf
一种单晶硅片退火冷却车,包括车体(1),所述的车体(1)上设置有若干硅片放置层(2),所述的硅片放置层(2)高度与单晶硅片炉体的炉管高度一致,所述的硅片放置层(2)上设置有与炉管对应的凹槽(3);所述的车体(1)顶部安装有风扇(4),所述的车体(1)底部安装有脚轮(5)。方便出炉硅片拖拽,降温迅速,且待单晶硅片冷却后可随时运走物料;操作方便、简单,保证人员的安全和退火质量。
一种单晶硅片的退火方法.pdf
本发明公开了一种单晶硅片的退火方法。包括:a、启动退火炉,并充入保护气体,将温度升至740~760℃,保温25~35分钟,放入单晶硅片,再次在740~760℃下,保温10~40分钟;b、将退火炉的温度降至640~660℃,保温10~40分钟;c、将单晶硅片迅速移出所述退火炉外,放入风淋机构中,一侧送风,一侧出风,送风口设有冷凝机组对进风降温,由风机将冷空气吹向单晶硅片,风速为3~7m/s,空气温度为10~16℃,将单晶硅片放置在中间的风道上,并且让冷风从侧面吹过上下平面,保证两侧均匀,在3~5min内,将
一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用.pdf
本发明提供了一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用,所述退火方法包括以下步骤:(1)第一绝对压力下送入硅片,并通入氮气吹扫;(2)抽真空至第二绝对压力,并通入氮气吹扫;(3)保持第三绝对压力,并通入氮气吹扫;(4)保持第四绝对压力,停止通入氮气,进行检漏;(5)保持第五绝对压力,通入氧气氧化,同时通入氮气吹扫;(6)第六绝对压力下取出硅片,并通入氮气吹扫;其中,步骤(1)至步骤(6)均在660‑700℃的恒温下进行。所述退火方法改善了PERC单晶电池用硅片的亲水性,同时有效去除
一种单晶硅片甩干装置.pdf
本发明公开了一种单晶硅片甩干装置,其结构包括进气顶罩、叶轮、集流喷吹装置、支架、硅片甩液装置、集液罩、整流排气装置、液箱、电机,本发明具有的效果:硅片甩液装置通过电机产生的驱动转矩带动硅片高速旋转,使硅片上下两面含有的蚀刻液被高效向四周甩出,因为集流喷吹装置通过磁斥力与硅片甩液装置配合,所以叶轮随硅片的转动进行旋转,叶轮回转过程中生成空气流,垂直向硅片表面的中心位置喷吹,在硅片的导向作用下气流向四周水平运动,从而提高硅片的甩液速度,且有效防止硅片在转动中液体无规律乱溅,通过整流排气装置能够高效排出随蚀刻液
一种单晶硅片的制备方法.pdf
本发明公开了一种单晶硅片的制备方法,包括以下步骤:S1、将多晶硅和掺杂剂置入单晶炉内的石英坩埚中;S2、当装料结束关闭单晶炉门后,抽真空使单晶炉内保持在一定的压力范围内,驱动石墨加热系统的电源,加热至大于硅的熔化温度,使多晶硅和掺杂物熔化。本发明中的薄化单晶硅材料及其载负微纳结构能有效抑制光在硅基材料表面的反射损失,增加光吸收,对进一步提高光基器件的性能具有重要意义,因此,采用薄化单晶硅的方式来制备柔性硅基材料可以满足于传统硅基结构制备工艺相兼容的要求,具有良好电学特性和机械柔性的材料,同时制造工艺成本低