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本发明公开了一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法,涉及TFT基板蒸镀技术领域。本发明的掩模板组件应用于高精细掩膜板,包括:多个遮挡条,用于遮挡所述精细掩模条间缝隙,避免材料蒸镀到TFT基板;多个镂空部,用于形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域,对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上,且不位于所述遮挡条与支撑条重叠部分;所述镂空部的位置均分别映射于TFT基板的非电路区,且每一所述镂空部的面积至少大于光学薄膜量测设备的光斑。本发明实施例通过一种新型的掩膜板组件和掩膜板,实现了在生产过程中对各个蒸发源镀膜均匀性进行在线测量及监控。