进气结构及管式PECVD设备.pdf

本实用新型涉及PECVD设备技术领域,提供一种进气结构及管式PECVD设备,进气结构包括匀流板、进气法兰和连接座;匀流板上设有多个均匀分布的散流孔;连接座内设有第一混合腔,并开设有混合入口和混合出口;进气法兰的侧壁设有第一进气孔和第二进气孔,进气法兰、炉门以及匀流板围成第二混合腔。在实际使用时,不同工艺气体分别由第一进气孔和第二进气孔进入第一混合腔内,并在第一混合腔内进行一次混合;再进入第二混合腔进行二次混合,最后由均匀分布的散流孔进入反应炉内。即在上述进气过程中,不同工艺气体经过了两次混合,能够提高混合的充分程度;且混合后的气体由匀流板进入反应炉内,能够使混合气体均匀分布在反应炉各个位置。