一种新型PECVD工艺腔体内硅片传送装置.pdf
大渊****公主
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一种新型PECVD工艺腔体内硅片传送装置.pdf
本实用新型公开了一种新型PECVD工艺腔体内硅片传送装置,包括法兰头,所述法兰头的底部凹槽活动相连有转轴,两个所述连杆的顶部均固接有环形件,两个所述环形件的内侧活动相连有保护筒,所述保护筒的内壁与转轴的外壁相贴合,所述保护筒的顶部环形槽活动相连有橡胶卡环,所述橡胶卡环的上方与法兰头的侧壁固定连接。本实用新型涉及设备中硅片传送技术领域,通过环形件、半圆形板件和限位弧形板之间的配合,采用保护筒对接触处的侧面进行保护,解决了现有的传送装置单单依靠隔离垫片只能保护好转轴和法兰头的端面,对侧壁的保护效果差的问题,不
一种硅片传送装置.pdf
本发明公开一种硅片传送装置,包括机架及连续式结构的皮带输送线,所述皮带输送线包括第一主动轮、第二主动轮、第一从动轮、第二从动轮、第一皮带、第二皮带及驱动电机,所述第一主动轮、第二主动轮均安装于主动轴上,所述第一从动轮、第二从动轮均安装于从动轴上,所述主动轴与驱动电机传动连接,所述第一皮带环绕于第一主动轮、第一从动轮上,所述第二皮带环绕于第二主动轮、第二从动轮上,所述第一皮带、第二皮带平行布置,且第一皮带与第二皮带之间设置有间隙,所述机架上设置有防止硅片偏转的定位机构。本发明解决了原有分段式皮带输送线在连接
硅片分片传送装置及硅片传送方法.pdf
本发明涉及一种传送装置和方法,具体为硅片分片传送装置,包括硅片组传送装置、竖向传送装置和水平过渡传送装置,竖向传送装置与水平过渡传送装置共用同一传送带,竖向传送装置与水平过渡传送装置的连接处有压轮;传送带上有通孔,竖向传送装置还有硅片吸盘,硅片吸盘安装在传送带的背面,硅片吸盘上有气孔,气孔与传送带上的通孔对应,气孔与抽气装置连接;硅片组传送装置末端还安装有推送喷头,推送喷头喷射方向朝向竖向传送装置。分片后的单片硅片由推送喷头推送到传送带上,传送带上的通孔通过负压将单片硅片吸附住,通过传送带完成全部传送,简
一种新型PECVD工艺腔体冷却控制装置.pdf
本实用新型公开了一种新型PECVD工艺腔体冷却控制装置,包括壳体,所述壳体的内壁底部安装有控温器,所述圆杆的外壁通过轴承与壳体的顶部转动相连,所述圆杆的底部固接有第一齿轮,所述第一齿轮的一侧啮合相连有第二齿轮,所述第二齿轮的内壁固接有双头螺柱,所述双头螺柱的外壁两侧均通过轴承转动相连有与壳体的内壁顶部两侧相固接的竖板,所述双头螺柱的外壁两侧均螺纹相连有与壳体的内壁顶部两侧相贴合的方块。本实用新型涉及半导体加工设备技术领域,通过圆杆、第一齿轮和第二齿轮之间的配合,实现了对承载部之间距离的调节,解决了现有装置
一种PECVD薄膜沉积腔室及PECVD工艺.pdf
本发明涉及一种PECVD薄膜沉积腔室及PECVD工艺。PECVD薄膜沉积腔室包括:沉积腔室本体,上电极和下电极,均设置在沉积腔室本体内部,上电极和下电极用于施加电源,并在上电极和下电极之间形成等离子体;真空腔室阀门,设置在沉积腔室本体内部,用于在开启状态下联通沉积腔室本体与大气压,并且在关闭状态下密封沉积腔室本体;固定载具,固定载具与下电极固连,位于上电极和下电极之间,用于承载待加工工件。本发明通过固定载具设置在PECVD薄膜沉积腔室中,在该腔室完成薄膜沉积工艺这一过程中不采用载具,从根本上杜绝了污染源,