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硅片的沉积控制方法、装置、沉积设备及计算机设备.pdf
2023-04-21
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曾琪****是我
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本申请涉及光伏领域,特别是涉及硅片的沉积控制方法、装置、沉积设备及计算机设备,所述方法包括:基于石墨舟的使用次数与硅片所沉积的减反膜厚度的对应关系,确定上一次石墨舟使用时所对应的硅片所沉积的减反膜厚度;基于所述上一次石墨舟使用时所对应的硅片所沉积的减反膜厚度以及减反膜的预设厚度区间,修正本次石墨舟使用时的沉积功率或沉积时间,以控制硅片的减反膜厚度达到目标厚度。本发明修正本次石墨舟使用时的沉积功率或沉积时间,以控制硅片的减反膜厚度达到目标厚度,使得每次沉积的硅片的减反膜厚度能够控制在预设厚度区间内。
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