一种用于硅片精密抛光的磨抛轮及其制备方法.pdf
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一种用于硅片精密抛光的磨抛轮及其制备方法.pdf
本发明涉及一种用于硅片精密抛光的磨抛轮,其由毡基体、磨料和树脂结合剂三部分组成;以体积百分比计,毡基体50%~95%,磨料5%~50%;树脂结合剂为毡基体和磨料总质量的1%~5%。将该磨抛轮用于硅片的抛光,可以提高硅片表面质量,减少硅片的表面损伤,且耗时短,成本低,抛光过程中无需添加研磨液或抛光液,绿色环保。
一种抛磨轮及其制备方法.pdf
本发明提供了一种抛磨轮及其制备方法,该方案包括有磨料、磨削微球和天然纤维;磨料、磨削微球和天然纤维通过与树脂粘接剂均匀混合后粘接并固化一体成型。该方案将磨削件一体成型,降低使用当中的风险,并且由于其材料一致,能共同参与磨削,能够有效的节约材料资源。
一种聚氨酯抛磨轮及其制备方法.pdf
本发明提出了一种聚氨酯抛磨轮及其制备方法,该聚氨酯抛磨轮包括若干层涂覆有耐磨浆料的尼龙纤维无纺布,所述的耐磨浆料包括如下重量份的组分:封端型聚氨酯预聚体100份,扩链剂10‑40份,溶剂5‑15份,发泡剂0.01‑0.5份,催化剂0.01‑0.5份,抗氧化剂0.1‑0.8份,磨料100‑500份,润滑剂2‑20份,色粉0.5‑5份;所述的封端型聚氨酯预聚体选自聚醚型封端聚氨酯预聚体、聚酯型封端聚氨酯预聚体中的一种或两种。本发明的聚氨酯抛磨轮,与市场同类型的抛磨轮相比,在耐用程度上提升1倍左右,表面粗糙度值
一种用于硅片加压抛光的高温粘结蜡及其制备方法.pdf
本发明公开了一种用于硅片加压抛光的高温粘结蜡,包括以下质量百分比的组分:35%-45%的脂松香、25%-35%的松香脂、20%-30%的川蜡和4%-6%的黄蜂蜡;采用本发明所提供的用于硅片加压抛光的高温粘结蜡,降低了生产成本,可以在不同环境温度下使用,可以在加压抛光情况下硅片不跑片,同时除蜡方便并容易清洗。
一种用于晶片双面磨抛机的承载盘及其磨抛机和磨抛方法.pdf
一种用于晶片双面磨抛机的承载盘,包括盘体、晶片工位和啮合齿,所述盘体被设置在双面磨抛机的上、下磨盘之间,啮合齿设置在盘体的外缘,待加工晶片分别被固定在盘体上表面和下表面的晶片工位处。本发明还包括一种使用上述承载盘的双面磨抛机,以及一种对晶片进行双面磨抛的方法。该方法包括:将两组待加工的晶片分别固定在承载盘上下表面的晶片工位;启动磨抛机对上下两组晶片的一个表面进行磨抛;当上述磨抛完成后,将上下两组晶片取下并反置固定在晶片工位,对晶片的另一个表面进行磨抛,或者放入另一组晶片进行磨抛。