一种消光膜及其制备方法和应用.pdf
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一种消光膜及其制备方法和应用.pdf
本发明提供一种消光膜及其制备方法和应用,所述消光膜包括基膜层,所述基膜层的两侧分别设置耐刮层和安装胶层,所述耐刮层中包括组分A,所述安装胶层中包括组分B,所述组分A和组分B质量之比为:0.5:1?20:1。本申请所述的消光膜的耐刮层和安装胶层中分别加入组分A和组分B,在保证消光膜的消光特性的同时,还具有高度抗刮、抗老化特性。本发明提供的消光膜的制备方法,工艺简单。
一种干膜光阻剂及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及线路板制作技术领域,公开了一种干膜光阻剂,以质量百分比计,包括以下的原料:高分子粘合剂40?70%、SMA树脂1?10%、光聚合单体10?40%、热聚合抑制剂0.001?0.1%、自由基光引发剂0.1?5%。本发明中的SMA树脂具有优异的耐碱性、抗化性,同时SMA树脂具有双重溶解性,既溶于碱性水溶液也溶于部分有机溶剂中,通过添加SMA树脂,可以显著提高干膜光阻剂的附着能力及解析度。
液晶光取向剂、液晶光取向膜及其制备方法和应用.pdf
本发明公开了一种液晶光取向剂、液晶光取向膜及其制备方法和应用,该液晶光取向剂包括有机溶剂以及聚酰胺酸和/或聚酰亚胺,聚酰胺酸和/或聚酰亚胺是由二酐单体与二胺单体制成,二胺单体包括第一二胺单体3,5‑二氨基苯甲酸叔丁基酯以及第二二胺单体。本发明的液晶光取向剂制备的液晶光取向膜不仅具有稳定的预倾角、高电压保持率以及低残留直流电压等基本特性,而且具有较低的离子浓度以及较好的耐摩擦性(硬度4H),能够用于高世代TFT液晶生产线。
一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用,该方法包括:(1)将待镀膜的基片引入至第一加工室中进行预处理,得到预处理基片;(2)将预处理基片引入至AR室中形成AR膜,得到含有AR膜的基片;(3)将含有AR膜的基片引入至含有AF膜料的AF室中,并将AF膜料沉积于AR膜的表面,得到含有AR膜和AF膜的基片;(4)将含有AR膜和AF膜的基片在AF室中进行热压处理。采用本发明方法制备得到的AR膜和AF膜通具有表面硬度高、耐摩擦性能的特点。
一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用,该方法包括:(1)将待镀膜的基片引入至第一加工室中进行预处理,得到预处理基片;(2)将预处理基片引入至AR室中形成AR膜,得到含有AR膜的基片;(3)将含有AR膜的基片引入至含有AF膜料的AF室中,并将AF膜料沉积于AR膜的表面,得到含有AR膜和AF膜的基片;(4)将含有AR膜和AF膜的基片在AF室中进行热压处理。采用本发明方法制备得到的AR膜和AF膜通具有表面硬度高、耐摩擦性能的特点。