一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用.pdf
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一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用,该方法包括:(1)将待镀膜的基片引入至第一加工室中进行预处理,得到预处理基片;(2)将预处理基片引入至AR室中形成AR膜,得到含有AR膜的基片;(3)将含有AR膜的基片引入至含有AF膜料的AF室中,并将AF膜料沉积于AR膜的表面,得到含有AR膜和AF膜的基片;(4)将含有AR膜和AF膜的基片在AF室中进行热压处理。采用本发明方法制备得到的AR膜和AF膜通具有表面硬度高、耐摩擦性能的特点。
一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用,该方法包括:(1)将待镀膜的基片引入至第一加工室中进行预处理,得到预处理基片;(2)将预处理基片引入至AR室中形成AR膜,得到含有AR膜的基片;(3)将含有AR膜的基片引入至含有AF膜料的AF室中,并将AF膜料沉积于AR膜的表面,得到含有AR膜和AF膜的基片;(4)将含有AR膜和AF膜的基片在AF室中进行热压处理。采用本发明方法制备得到的AR膜和AF膜通具有表面硬度高、耐摩擦性能的特点。
AR膜及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,公开了一种AR膜及其制备方法和应用。该AR膜包括依次层叠的Al<base:Sub>2</base:Sub>O<base:Sub>3</base:Sub>层、第一Nb<base:Sub>2</base:Sub>O<base:Sub>5</base:Sub>层、第一SiO<base:Sub>2</base:Sub>层、第二Nb<base:Sub>2</base:Sub>O<base:Sub>5</base:Sub>层、第二SiO<base:Sub>2</base:Sub>层、ZrO<b
一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备及镀膜方法.pdf
本发明涉及一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备,包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统,所述基片架系统位于所述真空腔室内部,所述基片架系统,包含多个可翻转的单根立柱;所述镀膜沉积系统,包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。通过位于真空腔体的内壁上的溅射阴极对基片进行AR膜镀制,单根立柱将镀完增透膜的基片翻转到内侧通过蒸发源对基片进行AF膜的镀制,达到制作过程时间短,无需在AR制作完成后换一台镀膜机进行AF制作,提高了批量化制作时的良率以及产能的效果,且表面不易被污染。
一种脱色膜及其制备方法和应用.pdf
本发明提供一种脱色膜及其制备方法和应用,所述脱色膜包括支撑层和负载于支撑层上的活性分离层,所述活性分离层包括水相反应物和油相反应物的界面聚合产物,所述水相反应物包括含胺单体和多酚单体,所述油相反应物包括含酰卤官能团单体和含铁化合物。所述脱色膜的制备方法为用水相反应物溶液浸渍支撑层的支撑膜,取出支撑膜去除表面溶液,再用油相反应物溶液浸渍支撑膜进行界面聚合反应,取出支撑膜去除表面有机溶液,晾干后再用碱性溶液浸泡,得到所述脱色膜。该制备方法易于重复,有利于工业化生产,且制备得到的脱色膜耐高温、耐污染、耐碱洗溶胀