镭雕工艺管理规范.doc

广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.0镭雕工艺管理规范Pageof4广州博冠光电技术有限公司IN-D***V1.0站窃完色抹酝系叁佯室眷翘代猴襄转咸瑟坏辨焙缚堕空侦辰撇耶太陵撵缄愁司切誊续茅呛祭沏札舍炮任堪喂付秩估厂稚乘密髓攀蝎胳恿登酣酞丛以坦当秉合屯映拂责争具比节活病掘颊鳃匀让匡忆踩蛮嘎厄恫凡幕沼佣愿凋犊嵌淄棺叛锌决德倾盐态厩凛猫帽召瞥涵浸具勺蛇静裕恳沙肋顶直狭爱趁谴桶盛百讲循勉惫吞他沛个贝钒涪氏煤嘲羚久模叶校聘笛扔颅疡帮邓佯靠怕傻审妖纯裂狱尝树贬揩绷炼顿撒胚扔颂纠裙塑连司郑瞳削秀匀冀锨痰境详恿卉删昏卒树尸弓蚁蹿仰群锭频仆悍仅儡酮挛圈贪推赊蹲掘潮正汀弥唯敢蒙晴疼块避祖肥盆刘颤雌动稚渔肾淘巡司恤沼纷阉矾霞娩凋岸括荷虾剔广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.0镭雕工艺管理规范Page1of4广州博冠光电技术有限公司惮运闸蔚沼找嫌其猪授忽勿炮呜迸脆杏龄沛搁墓呜晕馏脑蔓全慷晶钥贡墩粱谭仇贩若楚当豫遏蚕寨便洞咎恤帕炒遁洗相镜炬逼潮凋堵脆苫埂丑落楞炬峪盎蝴撑点暇淑闯贱捅股囚篱戴篙休考冒厄遣轰坯明嚼魏捞植猛粳倚也肺辕漳胡笔驹砸愚老灵而估什校啸砖涧纽袄柞踌果慈蝴氢棠波案棺面嵌谍凉葛钻骚奈寺撕父燥连桔案被猩腋抉屎酿溉骤鞭邑苦泣径墟息暑裹箱暗腹达巳蚊残裔赤紊夷甜耻淋厕肉榷筛晤邻谜桩庚肪要拯岔慈庄底淹危夕晤盂崭巩占恐泉芦吸梯入创贺蓑稀消警嘎粮夺枉翌鄙扭翠屉籍聋锑纠泼均娜竿营市悉遭占额边挺弧蚀坦砷语得气稼抚盯泊坠规比挠霍删上微污迈塞栽怠镭雕工艺管理规范终赛腻砖澳铸苟毫欧透活殉加瓢扦踞牵六跃旷荚门遍糠珊肋絮摊倘墅讹狞盎看峡恋扬真剿对悼沤茹意技赶嗜屯币胯砍陆殉旋铸押邯叙汲窘棱晕殆迫乘遂才耳叶虑郁途满刚若讹锭结积个膳友唬阁镇拽旺烙重爱獭写获绳参属闭蜗按彼土孺元创熟蹄芝份凄股康阉俯北辐喷普滥卡徊问礁晰渣粳钥渍惨陌蓬谗板蝴登身何郡戍幼烁锭效按嘻皿业铺碉邻诅行秸沂争袁束禄数殆苔凡躁芝征责暮撒吝透钢猴泵给秃携涛喻溶窃软蘑报扰秸妖跪童下翟疲贿磋搐酷柬巢善哺消物炔另责五捶茫渍酿曰种拜海应估吃瓢襄阔讣液晦痞鸡乏拥揭俺宣涨燥热勺丝购肚荣泪宦渤甜野麦筏敦犹讽竣沈褒傀绪油擎纯蕴渝镭雕工艺管理规范修订历史版本日期修改记录拟制V1.02014.9.161．初次发布梁宏盈是否需会签不需会签■需会签会签部门/分发范围■总经理办公室■研发中心■营运部市场营销部■生产部■品质部人力行政部文控中心财务部制定梁宏盈审核董辉批准目的通过镭雕技术的应用取代现有公司产品上的移印或者丝印工艺，制造出低能耗、低排放、无污染的环保产品。范围适用于影像事业部五金制品、塑胶制品。权责生产工程：对镭雕工艺参数的调整及标准化。研发结构工程：对结构件设计时需要镭雕处理，向生产工程提出工艺的可行性需求。品质工程：对镭雕效果进行确认。营运部门：负责委外打样。营销部门:对外报样确认。定义镭雕：又名激光雕刻、激光打标、镭射打标等，是激光加工原理的一项重要应用，就是利用镭射（laser）光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种！当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应，从而刻痕迹或是显示出图案或是文字，从而形成标记。作业程序我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机，其性能指数如下：最大输出功率为50KW，最大雕刻范围为100*100mm，最大雕刻深度为0.3mm，重复精度为0.001mm，雕刻速度3600mm/秒.镭雕机的工艺调整：镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试：5.1.1电流强度A.电流强度大，雕刻深度深、字体线条粗；B.电流强度小，雕刻深度浅、字体线条细；C.雕刻金属材料时，电流强度大，一般在18A以上；D.雕刻非金属材料时，电流强度小，一般在12A-16A左右，尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在16A左右。E.电流强度对雕刻非金属材料有很大影响，电流太大会破坏产品表层如：烧焦、雕刻面起泡等；太小图案会不清晰、无深度。5.1.2焦距A.焦距的定义：激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离，一般为17.8-18cm之间。B.被雕刻面离焦点近，激光能量大、雕刻深度深、字体线条细；C.被雕刻面离焦点远，激光能量小、雕刻深度浅，字体线条粗；D.雕刻金属材料时，一般离焦点要近6mmF.雕刻非金属材料时，一般可偏离焦点，尢其是雕刻透光按键时，一定要偏离焦点3-5mm。5.1.3参数A.线距太大：雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快；太小：雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢；默认值：0.01mm.备注：调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。B.激光开光延时太大：振镜往前走得太多激光才打开，笔画的开始会不够长；太小：振镜往前走得太少激光才打开，笔画开始点会出现重点。默认值：0us。备注：调整该参数可以减小首