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IC产业链的分工目前微电子产业已逐渐演变为设计,制造和封装三个相对独立的产业。IC制作0IC制造技术IC內部结构NPN双极型晶体管(三极管)第一块ICMOS结构0.1晶片制备0.1.1材料提纯(硅棒提纯)液态物质降温到凝固点以下,有些原子/分子会趋于固体结构的排列,形成较小的核心(晶粒),控制晶粒取向,可得到单晶结构的半导体。例如:8’晶片的晶棒重达200kg,需要3天时间来生长0.1.3切割(切成晶片)0.2掩模板制备光刻工艺掩模板应用举例:光刻开窗0.3晶片加工0.3.1氧化氧化0.3.2开窗0.3.3掺杂(扩散)0.3.4扩散扩散0.3.5薄膜淀积、金属化0.3.5.1薄膜淀积薄膜淀积——物理气相淀积(PVD)真空蒸发PVD溅射PVD溅射镀铝膜薄膜淀积——化学气相淀积(CVD)CVD原理示意图0.3.5.2金属化、多层互连多层互连工艺流程