镀膜产品及制备工艺.pptx

目录IP金：1N14和2N18色；IP玫瑰金：3N、4N和5N色；IP黑系列：枪色、钛灰色和纯黑色等。IP紫色、IP蓝色、IP棕色。每种颜色都可按不同的上下限色调生产---可参考色办册；每种膜层都可依据客户要求沉积不同级别的厚度；工件基材为碳钢、不锈钢、工具钢、钨钢、铜合金、钛合金、陶瓷、银等,某些基材可能需先水镀底层来获得更好的附着力；通过厚度、硬度、耐磨、耐腐蚀等测试，满足客户需求；符合RoHS和REACH标准。颜色：钢色、钛色,可调节颜色以满足客户需求。硬度：与基体硬度有关,不锈钢基体上最高可达1500HV。厚度：可达10µm以上。成品：拉砂、抛光或喷砂,可根据基材特点进行选择。基材：钢、钛、钨钢、合金、陶瓷等。特性：极强的耐磨损、耐腐蚀性,产品表面不易刮花。应用于：钟表、手机配件、模具、刀具等五金件真空镀膜。颜色：黑色,不同色调的灰色。硬度：可达1000HV左右。厚度：1µm到1.5µm。基材：钢,钛和钨钢。性能：镀层均匀、耐腐蚀、耐磨损、致密性和附着力好。应用于：模具、刀具、钟表和手机片等五金件真空镀膜。颜色：透明的,可应用于任一产品的表面。成品外观：适合于拉砂和喷砂面,抛光面不常用。特性：防止指纹；强的防水、油污性能。应用：表壳、表带和手机配件等。镀膜前镀膜前ColorfulCoatings(withOverlayer)FilmDeposition真空镀膜特点１.物理气相沉积（PVD）：2.溅射镀膜的基本原理：直流辉光放电区域可分为8个发光强度不同的区域。实际镀膜过程采用异常辉光放电。（２）溅射主要参数：入射离子轰击靶材时，平均每个正离子能从靶材打出的原子数。离子入射角度的影响：溅射产额（0.01-4）之间3.溅射沉积方法：①传统溅射方法缺点：③磁控溅射靶材：通过减小或增大靶中心的磁体体积，使部分磁力线发散到距靶较远的衬底附近，使等离子体扩展到衬底附近且部分等离子体起轰击衬底作用。拓展等离子体区域；增加离子比例；增加沉积能量。帕邢（Paschen）曲线（２）反应溅射：②靶中毒现象：④反应溅射应用：最常見的PVD製程蒸鍍(Evaporation)蒸鍍(Evaporation)原理蒸鍍(Evaporation)原理蒸鍍(Evaporation)原理濺鍍(Sputter)PLASMA濺鍍製程技術的特點各種PVD法的比較粗真空低真空高真空超高真空极高真空①溅射真空室组件：⑤抽气机组及阀门、管道：A分子泵：通过热电偶直接测量热丝温度的变化，热电偶产生的电动势就可以表征规管内的压力。气体压强和热电偶的电动势之间存在的关系：利用某种手段使进入规管中的部分气体分子发生电离，收集这些离子形成离子流；由于被测气体分子所产生的离子流在一定压力范围内与气体的压力成正比关系，通过离子流的大小反映出被测气体压强。欢迎有镀膜需求的朋友来电咨询！