大尺寸平板玻璃磁控溅射室与真空系统设计大学论文.doc

目录中文摘要：1英文摘要：21绪论31.1大尺寸平板玻璃镀膜设备的发展31.2磁控溅射技术的最新进展32磁控溅射原理及溅射沉积工艺参数42.1磁控溅射法的原理42.2磁控溅射的工艺参数43大平面磁控溅射镀膜玻璃生产线63.1大尺寸磁控溅射镀膜玻璃生产线的组成63.2平面磁控溅射镀膜玻璃生产线的分类74磁控溅射镀膜真空室的设计要求与原则84.1设计参数84.2磁控溅射镀膜真空室的主要设计原则84.3磁控溅射镀膜室对抽气系统的要求95磁控溅射真空镀膜室主要部分的设计与计算105.1真空室壳体的设计与计算105.1.1真空室壳体的类型选择105.1.2真空室壳体的计算与校核105.2传动系统的设计与计算125.2.1传动方式的选择125.2.2变频电机的确定135.2.3传动轴的计算与校核135.2.4V带传动的设计与计算145.2.5轴承的配置与轴承座的选定155.2.6轴承密封与传动轴动密封的设计165.3平面磁控溅射靶的选择与计算165.3.1平面磁控溅射靶的类型选择165.3.2平面磁控溅射靶水冷系统的设计与计算185.4抽气系统的设计与计算185.4.1选泵与配泵185.4.2抽气时间的计算195.5机架的设计与计算205.5.1磁控溅射真空镀膜室总重估算205.5.2机架的结构设计215.6工艺气体的分布的分析与设计21结论24谢辞24[参考文献]2525大尺寸平板玻璃磁控溅射室与真空系统设计摘要：大尺寸平板玻璃镀膜技术主要应用于建筑玻璃、平板显示等领域。目前，生产大尺寸玻璃广泛采用真空磁控溅射镀膜工艺，每年都有大量的平板玻璃进行溅射镀膜。我国连续式磁控溅射镀膜设备多为进口,国内自主研发设计还有很大的空缺。因此本设计具有十分重要的意义。本文介绍了磁控溅射镀膜的工艺流程和大尺寸玻璃生产线的组成。设计出了一种用于大尺寸平板玻璃镀膜的磁控溅射室和真空系统。本文对真空腔体和机架进行可行性设计，然后传动系统采用带传动进行玻璃的输送，抽气系统选用分子泵作为主泵，溅射靶使用最新的中频电源供电的矩形平面孪生磁控溅射技术。关键词：大尺寸玻璃镀膜；磁控溅射；矩形平面靶；镀膜玻璃生产线ThedesignofmagnetronsputteringchamberandvacuumsystemforlargeareaglasscoatingAbstract:Largeareaglasscoatingmainlyusedinthefieldofarchitecturalglassandflatpaneldisplay.Nowadays,magnetronsputteringcoatingfilmisthemainstreamtechnologyofvacuumcoating,everyyearalargenumberofflatglassforcoating.Thus,thisdesignhasveryimportantpracticalsignificance.Thisarticleintroducestheprocesslineoftheplanemagnetronsputteringcoatedglassandthemaincraftprocessesofmagnetronsputteringcoatingfilm.Thenafeasibilityofdesignproposalonthemagnetronsputteringchamberandvacuumsystemiscarriedout.Feasibilitydesignofvacuumsystemandrackarepresentedinthepaper.Thendrivetrainsystemusesthebeltconveyortodrive，vacuumpumpingsystemchoosesthemolecularpumpasthemainpump,andsputteringtargetusesthelatestintermediatefrequencypowersupplyrectangularplanartwin-targetsputteringtechnology.Keywords:largeareaglasscoating；magnetronsputtering；rectangularplanartarget；coatingglassproductline1绪论1.1大尺寸平板玻璃镀膜设备的发展目前，用于生产大尺寸玻璃的方法很多，主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、凝胶浸渍法和电浮法镀膜等。从镀膜玻璃的膜层均匀性、牢固度、膜厚可控性以及产品品种、生产操作的难易程度和生产效率等方面比较，真空磁控溅射镀膜法是生产大尺寸镀膜玻璃的最佳方法[1]。用这种方法生产的镀膜玻璃，膜不易