大尺寸平板玻璃磁控溅射室与真空系统设计.doc

目录
中文TOC\o"1-3"\h\z\uHYPERLINK\l"_Toc358029975"摘要： PAGEREF_Toc358029975\h1
英文摘要：HYPERLINK\l"_Toc358029977" 2
HYPERLINK\l"_Toc358029976"1绪论 PAGEREF_Toc358029976\h3
HYPERLINK\l"_Toc358029977"1.1大尺寸平板玻璃镀膜设备的发展 PAGEREF_Toc358029977\h3
HYPERLINK\l"_Toc358029978"1.2磁控溅射技术的最新进展 PAGEREF_Toc358029978\h3
HYPERLINK\l"_Toc358029979"2磁控溅射原理及溅射沉积工艺参数 PAGEREF_Toc358029979\h4
HYPERLINK\l"_Toc358029980"2.1磁控溅射法的原理 PAGEREF_Toc358029980\h4
HYPERLINK\l"_Toc358029982"2.2磁控溅射的工艺参数 PAGEREF_Toc358029982\h4
HYPERLINK\l"_Toc358029983"3大平面磁控溅射镀膜玻璃生产线 PAGEREF_Toc358029983\h6
HYPERLINK\l"_Toc358029984"3.1大尺寸磁控溅射镀膜玻璃生产线的组成 PAGEREF_Toc358029984\h6
HYPERLINK\l"_Toc358029985"3.2平面磁控溅射镀膜玻璃生产线的分类 PAGEREF_Toc358029985\h7
HYPERLINK\l"_Toc358029986"4磁控溅射镀膜真空室的设计要求与原则 PAGEREF_Toc358029986\h8
HYPERLINK\l"_Toc358029987"4.1设计参数 PAGEREF_Toc358029987\h8
HYPERLINK\l"_Toc358029988"4.2磁控溅射镀膜真空室的主要设计原则 PAGEREF_Toc358029988\h8
HYPERLINK\l"_Toc358029989"4.3磁控溅射镀膜室对抽气系统的要求 PAGEREF_Toc358029989\h9
HYPERLINK\l"_Toc358029990"5磁控溅射真空镀膜室主要部分的设计与计算 PAGEREF_Toc358029990\h10
HYPERLINK\l"_Toc358029991"5.1真空室壳体的设计与计算 PAGEREF_Toc358029991\h10
HYPERLINK\l"_Toc358029992"5.1.1真空室壳体的类型选择 PAGEREF_Toc358029992\h10
HYPERLINK\l"_Toc358029993"5.1.2真空室壳体的计算与校核 PAGEREF_Toc358029993\h10
HYPERLINK\l"_Toc358029994"5.2传动系统的设计与计算 PAGEREF_Toc358029994\h12
HYPERLINK\l"_Toc358029995"5.2.1传动方式的选择 PAGEREF_Toc358029995\h12
HYPERLINK\l"_Toc358029996"5.2.2变频电机的确定 PAGEREF_Toc358029996\h13
HYPERLINK\l"_Toc358029997"5.2.3传动轴的计算与校核 PAGEREF_Toc358029997\h13
HYPERLINK\l"_Toc358029998"5.2.4V带传动的设计与计算 PAGEREF_Toc358029998\h14
HYPERLINK\l"_Toc358029999"5.2.5轴承的配置与轴承座的选定 PAGEREF_Toc358029999\h15
HYPERLINK\l"_Toc358030000"5.2.6轴承密封与传动轴动密封的设计 PAGEREF_Toc358030000\h16
HYPERLINK\l"_Toc358030001"5.3平面磁控溅射靶的选择与计算 PAGEREF_Toc358030001\h16
HYPERLINK\l"_Toc358030002"5.3.1平面磁控溅射靶的类型选择 PAGEREF_Toc358030002\h