光刻技术历史与发展.doc
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编号河南大学2023届本科毕业论文光刻技术历史与发展姓名:作者学号:所在学院:所学专业:电子信息科学与技术导师姓名:导师职称:讲师摘要光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺,他起到的作用如题金工车间中车床的作用,光刻机如同金属加工工车间的车床。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实行,都离不开光刻的技束。光刻也是制造IC的最关键技术,他占芯片制导致本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻已经每年以百分之三十五的速度增长,他的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域,现在大型计算机的每个芯片上可以大约
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光刻技术的历史与现状光刻技术的历史与现状光刻技术是现代微电子工业中最重要的制造技术之一。随着半导体电子产品的不断发展,光刻技术从最初的手工制作,发展到今天的高精度自动化制造。本文将对光刻技术的历史、现状和未来进行分析和总结。光刻技术是一种制造微型器件的重要技术手段。它是通过将高质量的掩模上的芯片图案转移到光刻胶或薄膜上,再将其转移到硅基片上的一种制造技术,通过光学束的聚焦、显影和蚀刻等工艺过程,制造出半导体器件和微电子器件。光刻技术的发展历史可以追溯到20世纪初。在20世纪初期,光刻技术主要是通过人工进行
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纳米压印光刻技术的研究与发展纳米压印光刻技术的研究与发展随着纳米技术的快速发展,一种新的材料加工技术逐渐走进人们的视野——纳米压印光刻技术(NanoimprintLithography,NIL)。这种技术以其高分辨率、低成本、长程均匀性和强大的适应性等优点,受到学术界和工业界的广泛关注。本文将对NIL技术进行综述,包括其原理、发展历程、应用现状和未来展望。1.技术原理NIL技术是通过压印的方式将光刻胶印制成所需的结构。NIL技术的基本原理是:首先在基板上涂上光刻胶;然后将模板压在光刻胶上,并在模板与基板之
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光刻与光刻胶的研究与发展光刻技术一直以来都在集成电路制造中起着至关重要的作用。而与光刻技术密切相关的光刻胶则是在制程过程中起到关键作用的材料。光刻胶的研究与发展对于提高集成电路的制程性能以及实现更高度集成的芯片设计具有重要意义。本论文将从光刻技术的基本原理出发,综述光刻胶的研究与发展的现状和未来趋势。一、光刻技术的基本原理光刻技术是半导体制程中用于将图案传递到硅片表面的关键步骤。其基本原理是通过使用光刻胶将光源投射入射程,利用模板上的图案来控制光线的传输。通过曝光、显影和退火等步骤,最终形成所需的图案。二