光刻技术的发展与应用-豆柴文库

光刻技术的发展与应用.ppt

2024-09-11

10金币

685KB

20页

天马****23

实名认证

内容提供者

1/10

2/10

3/10

4/10

5/10

6/10

7/10

8/10

9/10

10/10

亲，该文档总共20页，到这已经超出免费预览范围，如果喜欢就直接下载吧～

下载提示文本预览

如果您无法下载资料，请参考说明：

1、部分资料下载需要金币，请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档，再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压，在使用对应软件打开

相关资料

光刻技术的发展与应用.ppt

光刻技术的发展史光刻技术的发展史光刻的原理与评价指标光刻的基本概念硅片制造工艺流程光刻胶的三维图形光刻工艺的8个基本步骤光刻的8个步骤步骤1：气相成底膜处理步骤2：旋转涂胶旋转涂胶步骤3：烘焙步骤4：对准和曝光对准和曝光步骤5：曝光后烘焙步骤6：显影光刻胶显影步骤7：坚膜烘焙步骤8：显影后检查

2024-09-11

685KB

光刻技术及其应用的状况和未来发展.doc

深圳金百泽电子科技股份有限公司（HYPERLINK"http://www.kbsems.com"www.kbsems.com）成立于1997年，是HYPERLINK"http://www.kbsems.com"线路板行业十强企业，总部设在深圳，研发和生产分布在深圳、惠州和西安等地，为客户提供产品研发的HYPERLINK"http://www.kbsems.com"PCB设计、HYPERLINK"http://www.kbsems.com"PCB快速制造、HYPERLINK"htt

2024-09-14

65KB

CMOS光刻市场发展及应用.docx

CMOS光刻市场发展及应用随着现代科技的不断发展，CMOS光刻技术在半导体工程中的重要性不断提高。CMOS光刻技术的发展不仅推动了半导体工程的进步，也为现代电子产业、信息技术、通信技术以及医疗仪器等领域的发展提供了重要的支持。本文将详细介绍CMOS光刻技术在市场中的发展及应用情况。一、CMOS光刻技术概述CMOS（ComplementaryMetal-Oxide-Semiconductor）光刻技术是一种非常重要的半导体制造工艺，是制造芯片的关键技术之一。光刻技术是一种采用光学技术进行的微影技术，即通过将

2024-11-15

11KB

光刻技术历史与发展.doc

编号河南大学2023届本科毕业论文光刻技术历史与发展姓名：作者学号：所在学院：所学专业：电子信息科学与技术导师姓名：导师职称：讲师摘要光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺，他起到的作用如题金工车间中车床的作用，光刻机如同金属加工工车间的车床。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实行，都离不开光刻的技束。光刻也是制造IC的最关键技术，他占芯片制导致本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻已经每年以百分之三十五的速度增长，他的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域，现在大型计算机的每个芯片上可以大约

2024-01-13

75KB

纳米压印光刻技术的研究与发展.docx

纳米压印光刻技术的研究与发展纳米压印光刻技术的研究与发展随着纳米技术的快速发展，一种新的材料加工技术逐渐走进人们的视野——纳米压印光刻技术(NanoimprintLithography,NIL)。这种技术以其高分辨率、低成本、长程均匀性和强大的适应性等优点，受到学术界和工业界的广泛关注。本文将对NIL技术进行综述，包括其原理、发展历程、应用现状和未来展望。1.技术原理NIL技术是通过压印的方式将光刻胶印制成所需的结构。NIL技术的基本原理是：首先在基板上涂上光刻胶；然后将模板压在光刻胶上，并在模板与基板之

2024-10-30

10KB