阴极配置、电子枪以及包括此电子枪的光刻系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108666188A(43)申请公布日2018.10.16(21)申请号201810479190.8H01J1/15(2006.01)(22)申请日2014.12.22H01J1/28(2006.01)H01J37/075(2006.01)(30)优先权数据H01J37/317(2006.01)61/921,5462013.12.30USG03F7/20(2006.01)(62)分案原申请数据201480071807.22014.12.22(71)申请人迈普尔平版印刷IP有限公司地址荷兰代夫特(72)发明人L.迪努-格尔特勒E.P.霍杰沃斯特(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人宋西(51)Int.Cl.H01J3/02(2006.01)权利要求书2页说明书17页附图8页(54)发明名称阴极配置、电子枪以及包括此电子枪的光刻系统(57)摘要本发明涉及一种聚焦电极，包括：圆柱形壳状体，该圆柱形壳状体限定用于容纳阴极本体的腔穴，和前盖部，该前盖部设置有圆形的电子透射孔径和聚焦表面，其中，热陷捕表面被设置在所述圆柱形壳状体的内表面上，该热陷捕表面被配置成用于在使用中接收由阴极本体所释放的热辐射，其中所述前盖部还包括内电极表面，其被配置成支撑所述阴极本体，其中所述圆柱形壳状体包括有角度的间隙，该有角度的间隙形成在壳状体结构中的狭缝或削切部，用于容纳约束配置，该约束配置用于以支撑结构为基准来约束所述聚焦电极和/或所述阴极本体。CN108666188ACN108666188A权利要求书1/2页1.一种聚焦电极，包括：圆柱形壳状体，该圆柱形壳状体限定用于容纳阴极本体的腔穴，和前盖部，该前盖部设置有圆形的电子透射孔径和聚焦表面，其中，热陷捕表面被设置在所述圆柱形壳状体的内表面上，该热陷捕表面被配置成用于在使用中接收由阴极本体所释放的热辐射，其中所述前盖部还包括内电极表面，其被配置成支撑所述阴极本体，其中所述圆柱形壳状体包括有角度的间隙，该有角度的间隙形成在壳状体结构中的狭缝或削切部，用于容纳约束配置，该约束配置用于以支撑结构为基准来约束所述聚焦电极和/或所述阴极本体。2.如权利要求1所述的聚焦电极，其中所述聚焦表面被定向为与前盖部的内电极表面形成角度，使得所述聚焦表面与所述内电极表面聚集在所述透射孔径处。3.如权利要求1所述的聚焦电极，其中在所述内电极表面上设置有三个分隔结构，以在聚焦电极与阴极本体的发射部分之间提供间隔。4.如权利要求1所述的聚焦电极，其中所述内电极表面被配置成支撑所述阴极本体，使得所述阴极本体通过重力的方式搁置在所述内电极表面上。5.如权利要求1所述的聚焦电极，其中设置径向分隔体以在所述圆柱形壳状体的内表面与所述阴极本体之间提供径向分隔体。6.如权利要求1所述的聚焦电极，其中所述内电极表面设置有热陷捕表面。7.如权利要求1所述的聚焦电极，其被配置成可移动地容纳阴极本体。8.如权利要求1所述的聚焦电极，其中所述圆柱形壳状体设置有自该圆柱形壳状体延伸的支撑组件，用于将所述聚焦电极支撑在支撑结构上。9.一种阴极配置，包括：如权利要求1至8中任一项所述的聚焦电极；和支撑结构，其设置有约束配置，该约束配置用于以支撑结构为基准来约束所述聚焦电极和/或所述阴极本体。10.如权利要求9所述的阴极配置，其中所述约束配置包括末端止动部，每一个末端止动部被配置成面向所述聚焦电极的一个或多个表面区域，和/或被配置成面向所述阴极本体的一个或多个表面，并且在与所述聚焦电极和/或阴极本体的一个或多个表面相距一距离处。11.如权利要求9所述的阴极配置，其中所述约束配置包括一个或多个末端止动部，所述末端止动部具有表面区域，其面向所述阴极本体和/或聚焦电极的一个或多个表面区域并且被配置成与其相距一距离，在所述约束配置与所述阴极配置之间的实体接触被避免。12.如权利要求9所述的阴极配置，其中所述圆柱形壳状体被设置有自该圆柱形壳状体延伸的支撑组件，并且被配置成使得聚焦电极以重力的方式通过在三个支撑组件与所述支撑结构之间形成的三点接触而被搁置在所述支撑结构上。13.如权利要求12所述的阴极配置，还包括：热离子阴极，其包括发射部分和贮存器，所述发射部分设置有用于发射电子的发射表面，所述贮存器用于保持材料，其中所述材料在受热时释放功函数降低微粒，所述功函数降低微粒朝所述发射部分扩散并且以第一蒸发速率从所述发射表面处发出；以及2CN108666188A权利要求书2/2页可调整的热源，其被配置成用以将聚焦电极的聚焦表面保持在一温度，在该温度防止或者至少减少功函数降低微粒累积在该聚焦表面上。14.如权利要求13所述的阴极配置，其中所述热离子阴极还包括容纳所述发射部分和所述贮存器的