用于热成像的镜头和包含其的热成像装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115857142A(43)申请公布日2023.03.28(21)申请号202211273890.4(22)申请日2022.10.18(71)申请人深圳迈塔兰斯科技有限公司地址518101广东省深圳市宝安区新安街道上合社区33区大宝路83号美生慧谷科技园秋谷8栋6楼(72)发明人赵小波郝成龙谭凤泽朱健(74)专利代理机构深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙)44285专利代理师孙超(51)Int.Cl.G02B13/00(2006.01)G02B13/14(2006.01)G02B3/00(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图11页(54)发明名称用于热成像的镜头和包含其的热成像装置(57)摘要本申请实施例提供了一种用于热成像的镜头和包含其的热成像装置，属于热成像的技术领域。该用于热成像的镜头包括从物侧到像侧依次设置的第一超透镜和第二超透镜；其中，所述第一超透镜为补偿透镜，所述第二超透镜为调制透镜。该镜头抑制了环境温度变化对镜头性能的影响。CN115857142ACN115857142A权利要求书1/2页1.一种用于热成像的镜头，其特征在于，所述用于热成像的镜头包括从物侧到像侧依次设置的第一超透镜(1)和第二超透镜(2)；其中，所述第一超透镜(1)为补偿透镜，所述第二超透镜(2)为调制透镜。2.根据权利要求1所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述第一超透镜(1)和所述第二超透镜(2)还满足：f1≥10.8mm；f2≤0.58mm；f1为所述第一超透镜(1)的焦距，f2为所述第二超透镜(2)的焦距；d为所述第一超透镜(1)与所述第二超透镜(2)的间距。3.根据权利要求1所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述用于热成像的镜头还满足：其中，f为所述用于热成像的镜头的有效焦距；f1为所述第一超透镜(1)的焦距，f2为所述第二超透镜(2)的焦距；d为所述第一超透镜(1)与所述第二超透镜(2)的间距。4.根据权利要求1所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述用于热成像的镜头还满足：f2<b<f；其中，b为所述用于热成像的镜头的后截距；f为所述用于热成像的镜头的有效焦距；f2为所述第二超透镜(2)的焦距。5.根据权利要求1至4中任一所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述第一超透镜(1)与所述第二超透镜(2)中的每一个均包括基底(11)和多个周期性排布在所述基底(11)一侧的纳米结构(12)。6.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述第一超透镜(1)与所述第二超透镜(2)中每一个的相位均至少满足如下关系之一：其中，r为所述基底(11)的中心到任一所述纳米结构(12)的中心的距离；x、y为所述纳米结构(12)在所述基底(11)的坐标；fML为所述第一超透镜(1)或所述第二超透镜(2)的焦距；λ为入射光束的中心波长；为入射光束初始相位，ai为各阶相位系数；i为大于等于1的整数。2CN115857142A权利要求书2/2页7.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述第一超透镜(1)与所述第二超透镜(2)中每一个的相位均满足如下约束：Δneff≤C；其中，neff为所述第一超透镜(1)或所述第二超透镜(2)的等效折射率；k为入射光束的波矢；Hd为所述纳米结构(12)的高度；Δneff为所述第一超透镜(1)或所述第二超透镜(2)的最大neff与最小neff的差值；C为常数；r为所述基底(11)的中心到任一所述纳米结构(12)的中心的距离；λ为入射光束的中心波长。8.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述基底(11)的材料包括氮化硅、氧化钛、氮化镓、磷化镓、氢化非晶硅、非晶硅、晶体硅、晶体锗、硫化锌和硒化锌中的任意一种或多种。9.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述纳米结构(12)的材料包括氮化硅、氧化钛、氮化镓、磷化镓、氢化非晶硅、非晶硅、晶体硅、晶体锗、硫化锌和硒化锌中的任意一种或多种。10.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述纳米结构(12)为偏振不敏感结构。11.根据权利要求5所述的用于热成像的镜头，其特征在于，所述纳米结构(12)为偏振敏感结构。12.一种热成像装置，其特征在于，所述热成像装置包括如权利要求1至11中任一所述的用于热成像的镜头和红外传感器；所述红外传感器设置于所述用于热成像的镜头的像面。3CN115857142A说明书1/9页用于热成像的镜头和包含其的热成像装置技术领域[0001]本公开涉及热成像的技术领域，具体地，本公开涉及用于热成像的镜头和包含其的热成像装置。背景技术[0002]热成像的原理是通过镜头接收目标的红外辐射，并通过光电转换等技术手段将目标的温度分布场转换