应用于VR场景的线条轨迹绘制方法及系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108268257A(43)申请公布日2018.07.10(21)申请号201611242442.2(22)申请日2016.12.29(71)申请人福建省天奕网络科技有限公司地址350212福建省福州市长乐市湖南镇大鹤村(72)发明人刘德建林琛邱霖辉(74)专利代理机构福州市博深专利事务所(普通合伙)35214代理人林志峥(51)Int.Cl.G06F8/38(2018.01)权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称应用于VR场景的线条轨迹绘制方法及系统(57)摘要本发明提供应用于VR场景的线条轨迹绘制方法及系统，方法包括：对VR感知设备的操作设备的底层SDK进行统一封装；向业务层提供所述操作设备的输入回调接口和操作信息，所述操作信息包括空间坐标和旋转角度；通过创建在业务层的画笔管理器中的LineRender轨迹画笔，在获取操作设备的操作信息后，将其渲染到VR场景中，生成对应的操作轨迹。本发明基于Unity引擎，使用Unity引擎中的LineRender组件、粒子系统组件以及2D图片组件，配合操作设备组成一套VR下的轨迹画笔组件，以Unity插件的形式对外部程序提供相关功能支持，能够快速的整合到以Unity开发的VR产品中，提供相应的功能支持。CN108268257ACN108268257A权利要求书1/2页1.应用于VR场景的线条轨迹绘制方法，其特征在于，包括：对VR感知设备的操作设备的底层SDK进行统一封装；向业务层提供所述操作设备的输入回调接口和操作信息，所述操作信息包括空间坐标和旋转角度；通过创建在业务层的画笔管理器中的LineRender轨迹画笔，在获取操作设备的操作信息后，将其渲染到VR场景中，生成对应的操作轨迹。2.如权利要求1所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制方法，其特征在于，还包括：画笔管理器中的粒子系统轨迹画笔在获取所述操作信息后，依据所述操作信息，通过粒子发射器在VR场景中生成对应的操作轨迹。3.如权利要求1所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制方法，其特征在于，还包括：画笔管理器中的平面轨迹画笔在获取所述操作信息后，依据密度过滤算法将所述操作信息中重复位置的空间坐标过滤掉；依据过滤后的空间坐标，通过sprite技术拼合成操作轨迹。4.如权利要求1-3任意一项所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制方法，其特征在于，还包括：在操作轨迹的各节点下存放一碰撞体节点，通过两点关系计算获取相邻两节点的胶囊碰撞体；将相邻胶囊碰撞体通过Joint节点连接，从而计算得到操作轨迹的线条碰撞体。5.如权利要求4所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制方法，其特征在于，还包括：将包括操作信息、操作轨迹的数据以及线条撞体的数据的线条轨迹文件以PB格式存储至本地；通过读取并解析所述线条轨迹文件，使用画笔管理器在VR场景中绘制出操作轨迹。6.应用于VR场景的线条轨迹绘制系统，其特征在于，包括：封装模块，用于对VR感知设备的操作设备的底层SDK进行统一封装；提供模块，用于向业务层提供所述操作设备的输入回调接口和操作信息，所述操作信息包括空间坐标和旋转角度；第一轨迹生成模块，用于通过创建在业务层的画笔管理器中的LineRender轨迹画笔，在获取操作设备的操作信息后，将其渲染到VR场景中，生成对应的操作轨迹。7.如权利要求6所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制系统，其特征在于，还包括：第二轨迹生成模块，用于画笔管理器中的粒子系统轨迹画笔在获取所述操作信息后，依据所述操作信息，通过粒子发射器在VR场景中生成对应的操作轨迹。8.如权利要求6所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制系统，其特征在于，还包括：过滤模块，用于画笔管理器中的平面轨迹画笔在获取所述操作信息后，依据密度过滤算法将所述操作信息中重复位置的空间坐标过滤掉；第三轨迹生成模块，用于依据过滤后的空间坐标，通过sprite技术拼合成操作轨迹。9.如权利要求6-8任意一项所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制系统，其特征在于，还包括：第一计算模块，用于在操作轨迹的各节点下存放一碰撞体节点，通过两点关系计算获取相邻两节点的胶囊碰撞体；2CN108268257A权利要求书2/2页第二计算模块，用于将相邻胶囊碰撞体通过Joint节点连接，从而计算得到操作轨迹的线条碰撞体。10.如权利要求9所述的应用于VR场景的线条轨迹绘制系统，其特征在于，还包括：存储模块，用于将包括操作信息、操作轨迹的数据以及线条撞体的数据的线条轨迹文件以PB格式存储至本地；绘制模块，用于通过读取并解析所述线条轨迹文件，使用画笔管理器在VR场景中绘制出操作轨迹。3CN108268257A说明书1/8页应用于VR场景的线条轨迹绘制方法及系统技术领域[0001]本发